尹志尧和他的中国“芯”

高荣伟

“要做就做世界第一，做中国第一也会被别人替代！”

他在硅谷从事半导体行业二十多年，专注于等离子体刻蚀设备的研发，个人拥有60多项专利，一度做到美国应用材料公司副总裁。功成名就之后，他出人意料地选择回国，只因当年一句誓言，“学成只为他日归来，报效祖国！”他，就是中微半导体设备公司董事长兼CEO尹志尧。

硅谷最有成就的华人之一

尹志尧出生在北京，大学毕业后在甘肃兰州炼油厂和中科院系统工作了近十年。1978年，“不安分”的他考入北京大学化学系念硕士。在那里，他目睹了当时国内最先进的计算机，内存只有128K，却占了两栋大楼，“里面装着数不清的电子管”。此情此景让他夜不能寐，改变中国半导体状况的想法在他心里涌动：“中国的电脑要拥有内存更多、运行更快的芯片！”

1980年，在父亲的鼓励下，尹志尧前往美国加利福尼亚大学洛杉矶分校攻读博士学位。此后，尹志尧一直在硅谷打拼。一开始，他在英特尔公司工作，负责电浆刻蚀业务。

在英特尔，尹志尧如鱼得水。期间，他经常与科林公司打交道，而他的任务之一，就是给对方的刻蚀机找毛病。在此过程中，尹志尧的才华给对方留下了深刻的印象，于是，科林极力邀请他加盟。

这是一个困难的抉择。英特尔初露王者之相，而科林成立不到六年，因为业绩不佳正在大幅裁员。出人意料的是，尹志尧选择了科林。“也许是对方的困境激起了我内心勇于接受挑战、敢于战胜自我的基因。”尹志尧回忆说。在科林，尹志尧不负众望，短短数年便开发出一系列成功的产品，帮助科林斩获全球40%的市场。

这时，昔日被挑落马下的霸主美国应用材料公司，也向这个青年才俊抛出了橄榄枝。尹志尧没有犹豫，果断接受邀请，迎接下一个人生挑战。

1991年，尹志尧来到全球最大的半导体设备公司——美国应用材料公司担任副总裁。应用材料公司是为电子行业提供纳米制造技术方案的全球领先企业，在这里，尹志尧参与了刻蚀机的研发工作。众所周知，刻蝕机是芯片制造的三大核心设备，加工精度在纳米级，相当于在一根头发丝几千分之一的尺度上，盖几十层高楼，或者搭一座立交桥，难度可想而知。

几年后，戏剧性的一幕出现了，刻蚀机市场的天平再一次向美国应用材料公司倾斜，尹志尧和同伴们所开发的产品，在这个领域占了全世界几乎50%的份额。在美国应用材料公司，他一干就是14年，先后获得了86项专利，被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。

学成只为他日归来

2004年，尹志尧已经60岁，但他毅然放弃了美国的百万年薪，携30人的创业团队踏上了回国之路。尹志尧的归国之举震惊了硅谷同行。临行前，美国政府清查了他们所有的电脑和600多万个文件。

在上海，尹志尧创办中微半导体设备公司，任董事长兼CEO。回国创业并非易事。为了筹资，他跑遍所有可能注资的机构和企业，却没能拿回一分钱。当时，国内对这种几十亿砸不出个水花的行业既不熟悉，也不感冒。无奈之下，他只好求助于硅谷。结果，短短两周，数十家风投机构就踏破门槛。

此情此景，让一心报国的尹志尧情何以堪：难道只有美国人能造出刻蚀机？不甘心让外资控股的尹志尧，将众多急于入股的风投拒之门外，带着3900万美元回到国内。

当时，信息技术正在引领新一轮技术革命浪潮，芯片的研发对于中国信息化至关重要。如果说在工业化时代，钢铁是工业的“粮食”，那么在信息化时代，芯片就是现代工业的“粮食”。然而，有人开玩笑说，中国什么都不缺，但是很缺“芯”。中国的芯片行业除了水和空气以外，其他全是从国外进口的。

半导体芯片是当今尖端制造的制高点，刻蚀机是芯片制造及微观加工的最重要设备之一，由于行业竞争激烈，几十年前，这个领域有近三十个玩家，后来只剩下两三个。中微如果不能在竞争中壮大，就只能等死。

尹志尧说：“要做就做世界第一，做中国第一也会被别人替代！”在半导体行业，尹志尧是少有的既懂技术，又擅长经营的公司掌舵人。早在中学时，他就展现出过人的组织能力，先后做过六年少先队和共青团工作；到了美国，又发起成立硅谷中国工程师协会，并担任前两任主席。这为他创业打下坚实的基础。

回国仅三年，尹志尧团队就开发出了第一台国产的生产半导体芯片的设备——等离子体刻蚀机，在业内首次采用双反应台，效率比国外同类产品高出30%以上。

对此，美国公司感到难以置信，作为龙头老大的应用材料公司“理所当然”地认为，“尹志尧肯定是偷了我们的技术，当初他们肯定私藏了图纸和资料。”于是对中微半导体提起专利诉讼。

对此，尹志尧早有准备，回国之际，他就要求团队，“不许携带老东家的任何文件和资料。”美国应用材料公司的律师团队气势汹汹来到中微检查之后，并未发现任何“盗窃”证据，只好与中微握手言和。这件事导致中微的国际信誉大增。

有人说，中微半导体研发的中国大陆第一台等离子体蚀刻机，为关键设备领域注入了一颗奔腾的中国“芯”。不过，这还只是开始。

没过多久，中微又推出第二代产品，将刻蚀和除胶整合在一台设备里，再次颠覆了行业惯例。芯片代工巨头台积电布局7纳米工艺时，在全球遴选了五家设备供应商，中微是大陆唯一入选的企业。刻蚀机7纳米制程是目前人类能够在大生产线上制造出的最小集成电路布线间距，接近了微观加工极限。

成功实现第一个目标

当所有的巨头还在为10纳米、7纳米技术大肆进军的时候，中微正式宣布掌握5纳米技术。在迄今为止人类开发的最复杂的技术上，中微终于突破了外企垄断的局面。这是中国半导体历史上最重要的一笔，也是中国半导体技术第一次比肩世界领先水平。

5纳米技术，是一个什么概念？“利用微雕技艺在米粒上刻字，一般能刻200个字已经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于可以在米粒上刻10亿个字。”尹志尧这样形容。

2015年2月，美国商务部宣布，解除等离子刻蚀机对中国的出口限制，理由是中国已经可以生产相同水平的设备。而迫使美国政府做出这一决定的，正是尹志尧。

凭借占地面积小、产出效率高、质量过硬的特点，中微的产品已经成功打入英特尔、台积电等一线大厂的生产线，并夺得国内35%的市场。不仅如此，中微还将自己的产品线拓展至硅通孔、传感器等领域，为意大利、法国半导体、博世等传感器巨头提供先进的设备。

“15年追赶，20年超越”是被誉为“半导体国产设备教父”的尹志尧2004年由硅谷归国时设立的目标。如今十多年过去了，中微芯片技术已与国外同行水平比肩。据了解，目前，中微开发的等离子体刻蚀机已经进入了国际最先进的7纳米芯片生产线，并将进入5纳米的试生产，成功实现了第一个目标。

中微半导体从事的刻蚀设备研发拥有良好的市场前景。“到2020年，仅芯片前端设备的市场规模就将达到300亿美元至400亿美元。”尹志尧说，“我们统计，2016年到2020年，国内共有998亿美元总投资，半导体设备投资为748亿美元。其中，等离子体刻蚀设备投资大约为134.7亿美元，中微的刻蚀机可以分得相当大的份额。”

尹志尧自豪地说，未来，中国将会变成世界上主要芯片生产制造基地之一。对此，我们充满信心。