Fenton氧化对有机硅废水中硅氧烷的处理分析

2021-08-13 08:56张志全
商品与质量 2021年30期
关键词:有机硅水溶液去除率

张志全

唐山三友硅业有限责任公司 河北唐山 063305

1 测试

1.1 关键原材料和设备

有机硅原料污水:pH值6-8,硅氧烷质量分数≥1000×10-6,有机化学耗氧量≥8000Mg/L,自产自销。过氧化氢(H2O2):质量分数30%,济南英初化工厂高科技有限公司;七水合硫酸铝:98质量%,河南省佛山市美源水处理材料有限公司;硫酸(按质量计31%),NaOH水溶液(按质量计32%):自产自销。重铬酸钾:AR,武汉兴中诚科技术有限公司;盐酸:质量分数40%-55%,山东兴化工厂销售有限公司。絮凝剂(PAM):摩尔质量1200×104g/mol,阳离子度80%,山东诺尔生物技术有限公司。

1.2 功能测试

ICP-OES:将盐酸和过滤后的污水以10:1的体积比混合,然后将它们放入微波消解仪中进行消除反应。然后,在ICP-OES检查之后,获得样品(C)中硅的质量分数;硅;根据式1计算氧烷的去除率(η)。

2 结果与讨论

2.1 Fenton空气氧化法解决有机硅物料污水的基本原理

Fenton测试试剂具有非常强的空气氧化能力。在Fe2催化反应下,H2O2分解并转化为·OH,这会导致大量其他氧自由基。·OH攻击有机物以捕获其中的氢,并将有机物转化为小分子。用水或将其转化为无机化合物,例如二氧化碳和水[1]。

2.2 H2O2用量对硅氧烷去除率的危害

调整反射管理系统的pH值为3,操作n(H2O2):n(Fe2)=5:1,在45℃下反射60分钟,并检查测试前后左右渗滤液中的硅氧烷含量。研究过氧化氢的量硅氧烷去除率的危害。

2.3 n(H2O2):n(Fe2)对硅氧烷去除率的危害

将管理系统的pH值调节至3,加入60mL的30%H2O2水溶液,固定反应温度为45℃,反应速度为60min,改变FeSO4的用量,并根据左右滤液中的硅氧烷进行反应进行测试。研究n(H2O2):n(Fe2)对硅氧烷去除率的危害。

从图可以看出,随着n(H2O2):n(Fe2)的增加,硅氧烷的去除率先增加然后降低。固定过氧化氢的量。当n(H2O2)∶n(Fe2)小于5∶1时,水溶液管理系统中Fe2的含量相对过多。当H2O2的量恒定时,n(H2O2):n(Fe2)的比率越小,Fe2的含量越多,·OH的消耗就越多。因此,随着n(H2O2)∶n(Fe2)的比率增加,相对Fe2含量降低,并且·OH的相对消耗降低。提高了系统软件空气氧化的实际效果;当n(H2O2):n(Fe2)超过5∶1时,水溶液中的Fe2浓度不足,无法合理地催化H2O2与·OH的反应,导致H2O2分解失败。O2转化率降低了硅氧烷的去除率。另外,钢水化合物的转化量也较少,这增加了斜板沉降池泥基的沉降时间,降低了斜板沉降池的实际效果。因此,n(H2O2):n(Fe2)选择5:1。

2.4 管理系统pH值对硅氧烷去除率的危害

固定过氧化氢的添加量为60mL,n(H2O2):n(Fe2)=5:1,反射温度为45℃,反应速度为60min。该调查反映了管理系统的pH值对硅氧烷去除率的危害。结果如图1所示。

图1

从图可以看出,管理系统的pH值对硅氧烷去除率的危害发展趋势与n(H2O2):n(Fe2)一致。管理系统的pH值在一个小时内过高,水溶液中的H浓度高,反映出Fe3HO2·→Fe2O2H被抑制,当遇到阻力时,Fe3还原为Fe2,从而削弱了Fe3HO2·→Fe2O2H。Fenton测试试剂的空气氧化能力,降低了去除硅氧烷的实际效果;当水溶液的pH值太高时,根据公式5,当水溶液中电离平衡中的OH-含量增加时,不仅会损害Fe2空气氧化成Fe3的高效率,而且同样会继续降低管理体系中·OH的含量,Fe2极易以氢氧化镍的形式沉积,并且在pH值太高时会失去其催化反应能力[2]。

3 结语

为了解决挥发性聚硅氧烷在有机硅原料污水处理中的堵塞问题,采用芬顿空气氧化法解决了有机硅原料污水中的硅氧烷问题,并对处理工艺进行了改进。随着H2O2量的增加和反应速率的增加,污水中硅氧烷的去除率持续增加直至稳定。随着n(H2O2):n(Fe2)的增加,管理系统的pH值的增加和反射温度的增加,二氧化硅的烷烃去除率先增加然后降低[3]。

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