陈 瀚,倪 勇
(1.四川机电职业技术学院,四川 攀枝花 617000;2.四川石油天然气建设工程有限责任公司,四川 成都 610215)
ZnO∶Cd薄膜电学性能的研究
陈 瀚1,倪 勇2
(1.四川机电职业技术学院,四川 攀枝花 617000;2.四川石油天然气建设工程有限责任公司,四川 成都 610215)
ZnO是一种宽禁带半导体材料,它是高阻材料。为了增强ZnO薄膜的导电性能,采用Sol-gel法,结合旋转涂覆技术在Si(100)衬底上制备了ZnO∶Cd薄膜,掺镉浓度分别为2%~10%。各种浓度的样品以金(Au)作电极做成叉指电极,并用绝缘电阻测试仪对掺镉后ZnO∶Cd进行表面电阻率的测试。根据测试结果对所制备的ZnO∶Cd薄膜的电学性能进行了分析。分析表明采用掺杂方法,制备ZnO∶Cd薄膜并进行热处理,大大降低了电阻率,从而增强了ZnO∶Cd薄膜的导电性能,优化了工艺参数。
Sol-gel法;旋转技术;ZnO∶Cd薄膜;热处理;电学性能
氧化锌(ZnO)属于六角晶系6mm点群,具有纤锌矿结构,是一种新型的II-VI族禁带半导体材料。氧化锌由于具有低阀值、量子限域效应、高效光电转换效率、强烈的紫外线吸收、紫外激光发射以及压电、光催化等方面性质,因而在半导体光电器件的集成和微型化领域占有重要的地位[1]。最近30多年来,围绕着氧化锌薄膜的晶体结构、物化性能、成膜技术以及相关的器件开发等展开了广泛深入的研究,使得它的各项性能和应用都获得了显著进展。许多应用氧化锌薄膜制作的电子器件已经得到了广泛的应用,如在透明SAW(Surface Acoustic Wave声表面波)器件上ZnO薄膜的应用,以及在透明电极、光电器件、蓝光器件等方面也有很大的应用潜力[2]。……