(第二轮)
中国感光学会定于2011年11月19日(星期六)在北京召开中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会,会期1天。 现将有关事项通知如下:
会议主办单位:中国感光学会
会议协办单位:中国科学院理化技术研究所、中国乐凯胶片集团公司、清华大学、北京大学、北京印刷学院、北京化工大学、北京理工大学、北京北大方正电子有限公司、中国印刷技术研究所。
1、大会特邀报告
(1)Lithography:its path of evolution,future trends and applications(日本JSR株式会社总经理Yoshikazu Yamaguchi)
(2)Recent Trends in Printed Electronics and the Situation in Korea (韩国首尔国立大学教授Chang Hee Lee)
2、大会主题报告
(1)中国感光学会30年(中国感光学会荣誉理事、中国科学院理化技术研究所研究员 陈萍)
(2)印刷及相关技术的发展与展望(中国感光学会理事长、北京印刷学院副校长 蒲嘉陵)
(3)有机显示器技术发展的回顾与展望(中国感光学会副理事长、清华大学副校长 邱勇)
(4)遥测遥感与高分辨率成像技术的发展与展望(中国感光学会副理事长、北京大学教授 晏磊)
(5)先进光刻胶材料的分子结构(中国感光学会理事、中国科学院化学研究所研究员 杨国强)
(6)光固化材料及应用发展现状及趋势(江南大学教授 刘晓亚)
(7)荧光功能单元DCM及萘二亚酰胺NDI在逻辑门和光学探针的应用(中国感光学会常务理事、华东理工大学教授 朱为宏)
(8)可印刷电子及其应用(中国科学院理化技术研究所研究员 刘春艳)
3、学术论文大字报展示
由于大会议程安排一天,大会组委会决定,所有提交会议的一般论文不再安排口头报告, 均以大字报形式进行展示。……