中温化学镀镍稳定剂的研究

曾振欧，王勇，张晓明，赵国鹏

（1.华南理工大学化学与化工学院，广东 广州 510642；2.广州市二轻工业科学技术研究所，广东 广州 510170）

【化学镀】

中温化学镀镍稳定剂的研究

曾振欧1,*，王勇1，张晓明2，赵国鹏2

（1.华南理工大学化学与化工学院，广东 广州 510642；2.广州市二轻工业科学技术研究所，广东 广州 510170）

在由NiSO4·6H2O 25 g/L、NaH2PO2·H2O 30 g/L、CH3COONa 20 g/L、乳酸15 mL/L和十二烷基硫酸钠8 mg/L组成的中温(75 °C)化学镀镍液(pH 4.60 ～ 4.65)中，研究了不同稳定剂对镀液稳定性、沉积速率、镀层磷含量、镀层性能等的影响。结果表明，低质量浓度(＜8 mg/L)的硫脲、2–巯基苯并噻唑及Na2S2O3对镀液的稳定效果较好，但适宜的浓度范围较窄，得到的镀层性能较差。KI作为稳定剂时兼有促进剂的作用，可以在较宽的浓度范围内获得相对稳定的沉积速率。金属盐A兼有稳定剂和光亮剂的作用，其加入使镀层光亮、细致。

化学镀镍；中温；稳定剂；沉积速率

1 前言

化学镀镍层具有优良的耐腐蚀、抗磨损、磁屏蔽、可焊接等性能，广泛应用于航空、航天、电子、机械、化工等领域[1-2]。然而，化学镀镍溶液是一个热力学不稳定体系，在化学镀镍过程中，镀液中存在外来的或还原反应产生的固体微粒或胶体粒子，这些微粒比表面积大，具有一定的催化活性，易诱发金属镍的沉积，导致化学镀镍溶液自发分解[3]。因此，在化学镀镍溶液中添加适合的稳定剂尤为重要。稳定剂可对导致镀液分解的活性结晶核进行掩蔽，阻碍金属离子在活性晶核上的还原，抑制镀液的自发分解，使施镀过程能在控制下有序进行[4]。……