国产离子膜DF988在DD350电解槽上的应用

张佳兴，齐长亮，董文虎，孙广军，孙玉堂，陈光强

（营创三征（营口）精细化工有限公司 辽宁营口 115003）

在营创三征试用国产离子膜之前，国产离子膜已在5家氯碱工厂开始了应用。营创三征及这前应用的单位和槽型见表1。

作为国内自主开发的第一代离子膜DF988，其定位特点就是高强度和安全性，若想验证DF988真正具有高强度和高安全性，最好的办法就是在DD350电解槽上试用，因为该电解槽电极有效面积3.5 m2，是目前电极面积最大，对离子膜要求最苛刻的电解槽。东岳集团国产离子膜生产企业经项目人员经过现场考察首选营创三征（营口）精细化工有限公司作为试用单位，并上报国家科技部获得批准。

1 DF988离子膜特性

DF988与国外同类型高强度离子膜物理性能对比见表2。

从表中可以看出，国产DF988与国外同类型膜物理性能相近甚至高于国外膜。

表1 国产DF988在营创三征及之前应用单位和槽型统计

表2 DF988与国外同类型高强度离子膜物理性能对比

与国外同类型高强度膜一样，DF988是无牺牲芯材的离子膜，为了发挥羧酸树脂和磺酸树脂各自优势，DF988同样用较厚的磺酸层/PTFE 网布/较薄的羧酸层复合而成，这样才能保证在较高的电流效率前提下，膜电阻最小。当然，为了降低气泡效应对槽电压的影响，性能卓越的亲水涂层也用来改善膜表面。

DF988采用了自主知识产权专利技术，全氟磺酸层和全氟羧酸层之间形成无界面融合状态，与国外膜相比，DF988大大提高了2层之间结合的牢固度，具有更优良的抗起泡能力，同时，通过层间结构的优化设计和树脂匹配，赋予离子膜突出的对盐水杂质耐受性。……