分子印迹聚合物的应用及辐射合成研究进展

周成飞

(北京市射线应用研究中心辐射新材料北京市重点实验室，北京　100015)



专题论述

分子印迹聚合物的应用及辐射合成研究进展

周成飞

(北京市射线应用研究中心辐射新材料北京市重点实验室，北京100015)

分子印迹聚合物是分子印迹技术与聚合物膜技术相结合而发展起来的一种新型聚合物材料，不管是应用方面，还是合成上都取得了很大进展。本文主要介绍了分子印迹聚合物在分析检测、分离萃取等方面的应用，并着重综述了射线辐射法、光辐射法及微波辐射法制备分子印迹聚合物的研究进展。

分子印迹聚合物辐射技术射线辐射光辐射微波辐射

分子印迹聚合物具有新型官能团，对某些分子具有空间识别性能，并且，由于能够与具有类似结构的分子印迹聚合物相连接的能力。因此，近几十年来，该聚合物受到了普遍的关注。本文首先介绍分子印迹聚合物的应用，然后着重对利用辐射技术制备分子印迹聚合物的研究进展作一综述。

1　分子印迹聚合物的主要应用

众所周知，分子印迹聚合物是分子印迹技术与聚合物膜技术相结合而发展起来的一种具有构效预定性和特异识别性的新型聚合物材料。这类聚合物在合成过程中需加入要识别的目标分子，经洗脱就能形成与目标分子相匹配的结合位点及化学空间结构，这样在分离时就能高效的选择目标分子。正因为分子印迹聚合物具有这样的特性，使其具有广泛的实用性，在许多方面都具有一定的应用价值。……