TiO2Si复合材料的制备及其性能分析

陆迪　孔德龙　孙向博

摘 要：Si（硅）是一种比较常见的半导体材料，在许多个领域之中得到了广泛的应用，如太阳能电池、光电材料等，并在这些领域之中发挥着非常重要的作用。但是，因为空气折射系数与硅的折射系数两者之间存在着非常大的差别，从而导致光波在界面处出现了比较严重的反射损失。为降低界面反射损失，必须在硅半导体材料的表面加镀一层渐变层材料，且该渐变层材料的折射率应当处于1.0～3.5之间。TiO2，即钛白粉，其折射率为2.73，且具有成本低、耐腐蚀、无毒、光催化活性较高、化学性能稳定以及氧化还原电位高等一系列的优势，因此，其被看作是一种十分理想的光催化剂。

关键词：TiO2/Si复合材料 制备 性能 光催化

中图分类号：TM912.9 文献标识码：A 文章编号：1672-3791（2016）06（b）-0061-02

近年来，复合型催化材料凭借着其所具有的表面活性高、层间距大、孔径大以及表面积较大等一系列优势性能，在光学元件、电化学、光催化氧化等方面上展示出了良好的应用潜力与广阔的应用前景，且已经成为了光催化材料领域的关注焦点与研究热点。该篇论文通过开展实验，对TiO2/Si复合材料的制备及其性能进行了分析。

1 实验材料

首先，该研究所用实验仪器及设备主要包括：（1）日本日立株式会社生产的扫描电子显微镜（S4800型）；（2）德国布鲁克AXS公司生产的X射线衍射仪（D8型）；（3）北京畅拓科技公司生产的电化学工作站（CHFXM500W 型）；（4）北京普析通用仪器公司生产的紫外可见分光光度计（U1901型）。

其次，该研究所用实验试剂主要包括：（1）钛酸四丁酯；……