刘庆彬 蔚翠 何泽召 王晶晶 李佳 芦伟立 冯志红
(河北半导体研究所,专用集成电路国家级重点实验室,石家庄050051)
蓝宝石衬底上化学气相沉积法生长石墨烯
刘庆彬蔚翠何泽召王晶晶李佳芦伟立冯志红*
(河北半导体研究所,专用集成电路国家级重点实验室,石家庄050051)
化学气相沉积(CVD)法是制备大面积、高质量石墨烯材料的主要方法之一,但存在衬底转移和碳固溶等问题,本文选用蓝宝石衬底弥补了传统CVD法的不足。利用CVD法在蓝宝石衬底上生长石墨烯材料,研究生长温度对石墨烯表面形貌和晶体质量的影响。原子力显微镜(AFM)、光学显微镜(OM)、拉曼光谱和霍尔测试表明,低温生长有利于保持材料表面的平整度,高温生长有利于提高材料的晶体质量。研究氢气和碳源对蓝宝石衬底表面刻蚀作用机理,发现氢气对蓝宝石衬底有刻蚀作用,而单纯的碳源不能对衬底产生刻蚀效果。在1200°C下,直径为50mm的晶圆级衬底上获得平整度和质量相对较好的石墨烯材料,室温下载流子迁移超过1000cm2∙V-1∙s-1。
石墨烯;蓝宝石;化学气相沉积法;生长温度;刻蚀机理
蓝宝石单晶材料属于六方晶系,具有电绝缘、易导热、硬度高和价格低廉的特点,因此经常用来作为集成电路的衬底材料。蓝宝石如此优良的特性使得它成为制备石墨烯材料的理想选择,近几年,国际上已有数个研究小组开展了蓝宝石衬底上石墨烯材料生长研究,并取得了一定的进展。2010年,Hwang7和Maeda8研究组在没有金属催化剂的条件下,分别采用CVD法和分子束外延(MBE)法,直接在蓝宝石衬底上生长出薄层石墨化碳材料,证明蓝宝石衬底上生长石墨烯材料具有可行性。……