硅基板表面电沉积法制备HAP涂层及表征

岳雪涛，田清波，张丰庆，孙德明，孙康宁

(1.山东建筑大学材料科学与工程学院，济南　250101；2.山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室，济南　250061)



硅基板表面电沉积法制备HAP涂层及表征

岳雪涛1，田清波1，张丰庆1，孙德明1，孙康宁2

(1.山东建筑大学材料科学与工程学院，济南250101；2.山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室，济南250061)

硅基板； 电沉积； HAP涂层

1　引　言

在目前临床医疗中采用的植入体材料一般为金属材料、有机材料、无机材料或是复合材料，其与人体组织存在较大差异，生物相容性较差，常常产生排斥反应。为了改善植入体生物相容性，延长使用寿命，现在普遍的做法是在其表面采用物理或者化学的方法制备一层钙磷盐涂层，如羟基磷灰石(HAP), 这样既有较高的力学性能，又有良好的生物相容性[1]。电沉积法制备HAP涂层是将基片作为阴极材料，放入含有钙磷离子的溶液中，加上电压之后，钙磷离子在电压驱动下在阴极沉积成钙磷盐涂层，经过进一步处理，转变成致密的HAP涂层。硅基板表面光滑且化学性能易于理解，在制备薄膜材料时用作基片材料，用来分析薄膜材料生长的机理。本研究选用P型硅作为制备钙磷盐涂层的基片材料，研究钙磷盐涂层的生长过程及生长机理，并进行表征。

2　实　验

2.1实验设备及药品

在实验中采用国药集团生产的Ca(NO3)2·4H2O、NH4H2PO4、NH3·H2O和氢氟酸，纯度为分析纯。基片采用上海隆泰铜业有限公司生产的P型硅基板，其电阻率为0.01～0.02 Ω·cm，直径为(50±0.4) mm，厚度为(500±15) μm。……