浙江·杭州第四届杭州·中国画双年展艺委会第二次会议在杭州举行

浙江·杭州第四届杭州·中国画双年展艺委会第二次会议在杭州举行

会议现场

5月20日，“第四届杭州·中国画双年展艺委会第二次会议”在杭州举行。刘大为、许江、杨力舟、张晓凌、刘健、马锋辉、孙永、骆献跃、高士明、吴山明、刘国辉、陈平、杜松儒、石君一、罗剑华、王凯等人参加此次会议。会议就本届展览主题“正大气象”为会议议题，确定本次展览分为“风”“雅”“颂”三大部分，并且为参展艺术家们提出了“三去三倡”的创作要求：去除陈腐的绘画之风，倡扬正大之气；去除僵化的思想观念，倡导创新突破；去单一，倡多样，让传统活在今天，为大众展示当今中国画的“中堂”正大气象！

本次会议根据第四届杭州·中国画双年展策展人刘大为、孙永的初步推荐提名，经各位艺术委员的进一步推荐和无记名投票表决，共有42位在当代中国画画坛具有代表性的艺术家获得本届双年展的邀请。“风”篇13人：张道兴、杨晓阳、潘汶汛、陈永锵、方楚雄、尼玛泽仁、刘云、韩书力、冯大中、刘金贵、梁战岩、徐勇民、郑军里；“雅”篇14人：陈辉、许俊、闵学林、吴静初、姚晓冬、许钦松、陈琪、戴卫、朱道平、王涛、江文湛、孔维克、王镛、丁中一；“颂”篇15人：赵建成、唐勇力、吴永良、王赞、施大畏、薛亮、杜滋龄、何家英、王西京、马国强、白云乡、蔡超、许勇、程振国、刘泉义。

杭州中国画·双年展秉持“回眸世纪发展之路，标新国画学术话语，重建当代文化联系，再造东方艺术高峰”的学术宗旨，自2011年以来，经过三届展览的成功举办，已经成为迄今为止规模最大、规格最高、最具学术性和影响力的中国画展览。……