国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,在365nm光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达22nm;结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10nm级别的芯片。该项目在原理上突破了分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过了国外相关知识产权壁垒,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。
(图片来源:新华网)
军民两用技术与产品2018年23期
1《婚育与健康》2024年9期
2《现代经济信息》2024年5期
3《现代农村科技》2024年5期
4《电气技术与经济》2024年4期
5《吉林医学》2024年3期
6《北京文学·中篇小说月报》2024年5期
7《经济技术协作信息》2024年2期
8《北华大学学报(自然科学版)》2024年2期
9《农业开发与装备》2024年3期
10《畜牧兽医科技信息》2024年1期