磁控溅射工艺对涤纶基布的耐磨性探究

孙依冉，杨建忠

(西安工程大学纺织科学与工程学院，陕西西安 710048)

近数十年来，纳米薄膜材料得到了飞跃的发展，在科学研究和实际应用等诸多领域取得较多的成果。将纳米薄膜沉积在纺织品上，是纺织品功能化的一个新的研究方向。纳米级的金属薄膜可以赋予纺织品各种新功能，如具有抗电磁屏蔽、抗菌等等，并扩大纺织品的应用范围[1-2]。目前,在纺织品表面制备金属膜薄的方法有化学镀,激光脉冲镀膜,真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜等。但是化学镀制备的金属薄膜疏松、不均匀；激光脉冲沉积规模小，设备成本高昂；真空蒸发镀杂质和缺陷较多，薄膜与基材粘附力小，工艺重复性不好；但使用磁控溅射工艺制备薄膜，具有溅射率高、操控方便、能耗低等优点，同时制备出来的薄膜质量好、附着性强、密度高，适合大规模工业化生产[3-5]。

本文以涤纶织物为基材，分别以金属铜和金属铝作为靶材，采用磁控溅射方法制备纳米铜膜和纳米铝膜的涤纶织物，探究磁控溅射参数以及靶材的不同对于织物耐磨性能的影响。

1 制备纳米铜膜、纳米铝膜涤纶织物

实验材料：组织结构为平纹的机织涤纶织物，经纬纱密度为340/190 根/10cm(220T)，将其裁剪成直径为10cm的圆形试样作为备用；纯度为99.99%的铜靶材和纯度为99.99%的铝靶材，直径51mm；氩气，纯度为99.99%。

实验仪器：JZCK-420B多功能磁控溅射设备，沈阳聚智科技有限公司生产，配备射频和直流电源，射频源频率为13.56MHz；隧道电子扫描显微镜;YG(B)401型织物平磨仪，安徽省江南机械厂生产。……