曲面微光学结构纳米压印制备技术研究

陈振浩

【摘  要】曲面光栅受自身的性质影响，主要体现为透镜与平面光栅器件，通过曲面光栅的取代，可以有效的降低透镜的数量，实现对光路的简化，并提升器件的集成度，在保证系统稳定性的基础上降低成本，满足当前的需求。本文从纳米压印制备技术入手，深入进行分析，结合实际情况明确曲面微光学结构微纳制备，分析微纳曲面压印，以供参考。

【关键词】曲面光栅;纳米压印制备;湿法腐蚀

引言：随着时代不断发展，曲面微光学结构纳米压印制备技术不断创新，并促使其技术广泛应用，如在光通信领域、计量领域、光谱学领域、信息处理领域等，提升光学器件的整体集成度，保证其具有较强的稳定性，降低成本的投入，灵活应用技术优势，满足时代发展的需求。

一、纳米压印制备技术概述

纳米压印制备技术出现于上世纪末期，并广泛的应用在多个领域中，实现创新发展。纳米压印技术应用的价值在于自身的低成本与高效的图形转移分辨率，在发展过程中，现有的技术已经实现了突破，可加工更小的5nm尺寸以下，以满足人们的需求。纳米压抑技术包含的内容较多，如紫外压印、热压印、激光辅助印刷以及微接触印刷等，并不断进行研究创新，逐渐向光学、生物MEMS、电子以及生物传感等领域发展。我国在研究过程中纳米压印制备技术逐渐实现突破，如南京大学微结构国家实验室材料科学与工程系研究的纳米压印-软压印复合纳米微加工技术已经处于世界前列，实现了紫外线固化纳米压印结构，提升纳米分辨率，实现创新应用[1]。……