卤氧化铋复合光催化材料的研究进展

王梓倩 田冬梅 陈美延

（沈阳师范大学化学化工学院，辽宁 沈阳110034）

当前，环境污染己经成为工业发展中较为重视的问题，特别是有机染料污染。近年来，半导体光催化技术在有机污染物降解领域得到广泛的关注和研究[1]。一般来说，传统的光催化剂会有某些缺点，如由于禁带太宽只能被紫外光激发、光生电荷复合率高等[2]。因此，光催化技术研究方向逐渐转向于研究开发一种光催化效率高、新型的复合可见光光催化材料。

最近，人们对光催化性能较高的层状化合物卤氧化铋有广泛的关注和深入的研究。对于单纯的卤氧化铋来说，它具有较高的光生电子一空穴对复合率，这限制了卤氧化铋的实际应用。由于半导体光催化剂改性后的活性一般都表现出高于单一半导体的光催化活性，所以，研究者一般会从这点入手采用对卤氧化铋光催化剂进行改性方法来提高光催化活性[3]，并以卤氧化铋为基础来制备卤氧化铋复合光催化剂材料，从而促进其良好发展。

1 卤氧化铋的结构

BiOX(X=Cl，Br，I)是铋基半导体光催化材料的一个分支，它作为一种新型的光催化剂，具有独特的能带位置和层状结构，是一种三元层状结构半导体材料，它的晶体结构为PbFCl型，属于四方晶系。卤氧化铋的晶体结构为双层卤素原子和[Bi2O2]层交替排列所构成的层状结构，卤素原子通过非键力结合可以形成双层排列的卤素原子层。层状结构的卤氧化铋可以有利于光生电子一空穴的分离，使卤氧化铋可以有稳定良好的光催化活性。……