电子特气六氯乙硅烷产品金属杂质检测方法

万烨，肖劲，严大洲，张园园，仲奇凡，刘芳洋

（1.中南大学冶金与环境学院，湖南长沙，410083；2.中国恩菲工程技术有限公司，北京，100038；3.多晶硅材料制备技术国家工程实验室，河南洛阳，471023；4.难冶有色金属资源高效利用国家工程实验室，湖南长沙，410083）

电子特气作为电子信息产业的基础原材料，是支撑电子信息集成电路产业迈入国际先进水平的重要基础。半导体行业的蓬勃发展推动了电子气体行业快速增长，中美贸易战的持续升级加快了其国产化的进程。《国家中长期科学技术发展规划纲要（2006—2020 年）》、《中国制造2025》的发布，更是激发了国内实力雄厚企业和科研院校的研发及产业化热情。六氯乙硅烷产品作为一种性能稳定、挥发性低和湿度敏感的电子特气产品，主要用于DRAM和NAND Flash存储器的制造以及特征尺寸28 nm以下逻辑芯片的制备工艺，国际上英特尔、三星、台积电和海力士和美光，国内长江储存、华虹、中芯国际和合肥长鑫对六氯乙硅烷均有需求。中国正加快集成电路用基础原材料的国产化进程，目前国内已有2~3家企业攻克六氯乙硅烷产品的生产技术，但其测试方法与国外相比有一定差距。六氯乙硅烷的产品质量通过组分含量和金属杂质2类指标进行评价，其中组分测定在国内有着成熟的色谱分析技术。但是作为常态下为液态且具有挥发性和腐蚀性的硅基化工产品，单项金属杂质质量分数低至十亿分之一，其超痕量金属杂质的测定为目前国内的检测瓶颈，也是国外技术封锁的项目之一。……