基于高浓度氢氧化钠原位清洗剂配方的原料选择

张志国 王强绪

（诺力昂化学品（博兴）有限公司，山东博兴，256500）

原位清洗（Cleaning-in-place，CIP）在食品、饮品和制药工业中起至关重要作用。一个完整的原位清洗过程包含酸性CIP清洗、碱性CIP清洗和蒸汽清洗消毒[1]。整个CIP清洗流程往往需要较长的时间，很多工厂为了提高生产效率，在一个生产周期中往往采用一次完整CIP清洗加数次碱性CIP清洗的方式来减少常规CIP清洗的时间。因此对碱性CIP清洗质量和效率要求极高。同时由于泡沫在清洗过程中可能造成清洗死角、物料以及能源损耗和安全问题，CIP清洗对泡沫要求极高，理想状态下应该没有泡沫[2]，因此，这对碱性CIP清洗剂配方设计提出更高要求。同时，碱性CIP 清洗剂配方通常都含有较高浓度氢氧化钠（＞30%），在此情况下，配方师往往面临配方稳定性挑战，因此对能够兼容高浓度氢氧化钠溶液的原料提出较高挑战。

本实验围绕碱性CIP清洗剂配方特点，从螯合剂、增溶剂和表面活性剂的角度，通过测试与NaOH兼容性、增溶性能、表面活性剂泡沫性能、润湿性能以及模拟清洗结果介绍了几种适合高浓度NaOH配方体系的原料。

1 实验

1.1 实验材料

氢氧化钠、氢氧化钾、五水偏硅酸钠、焦磷酸钾均为分析纯产品，购于国药试剂集团公司；乙二胺四乙酸四钠EDTA4Na（Dissolvine NA，87%）、谷氨酸二乙酸四钠GLDA（Dissolvine GL-47-S，47%）、甲基甘氨酸二乙酸三钠MGDA（ Dissolvine M-40，40%）、乙基己基醇聚氧乙烯醚Berol 840、直链脂肪醇聚醚Berol 260、己基糖苷AG6206均为诺力昂特殊化学品有限公司产品；对甲苯磺酸钠SXS、异丙苯磺酸钠SCS、低泡磷酸酯增溶剂、低泡两性增溶剂、低泡肪醇聚氧乙烯醚聚氧丙烯醚（LF1）均为市售产品。……