利用金属光栅提高LED发光效率的研究

2022-04-25 08:03江孝伟郑盛梅
激光技术 2022年3期
关键词:光面透射率入射角

江孝伟,朱 震,郑盛梅

(1.衢州职业技术学院 信息工程学院, 衢州 324000; 2.北京工业大学 光电子技术教育部重点实验室, 北京100124; 3.衢州职业技术学院 设备与实训管理中心,衢州 324000)

引 言

发光二极管(light-emitting diode,LED)由于具有体积小、寿命长、效率高等特点[1-3],因此被广泛应用在照明、显示、通信等领域当中[4-6]。虽然LED已经大规模应用在人类社会的各个领域,但是由于LED存在低光提取效率和低内量子效率等问题[7-8],导致LED的发光效率很难达到人们的期望值。

之所以LED会存在光提取率低的问题,以氮化镓(gallium nitride,GaN)基LED为例,是因为GaN与空气的折射率相差较大,因此极易形成光的全反射,且全反射临界角仅为2.35°左右[9-11]。这就会导致有源区发出的光会大部分被限制在LED器件当中并转化成热量,由于热量不断的累积,使LED长时间处在高温工作状态,降低了LED的使用寿命。为了能够提高LED光提取效率,许多课题组提出了不同的技术方法,如LED倒装技术、表面粗化技术、光子晶体技术等[10,12-14]。但是可以发现,上述不同的技术虽然可以提高LED的光提取效率,却无法解决LED内量子效率低的问题。

由于GaN LED高密度的位错缺陷及晶格失配,才会导致LED内量子效率低。之前提高LED内量子效率,主要还是通过外延技术提高量子阱的生长质量,但是该方法存在成本高和技术难度大等问题。2004年,OKAMOTO等人提出在蓝光LED出光面P-GaN层生长一层Ag薄层,LED的内量子效率得到了显著的提高[15]。这主要是因为Ag薄层与P-GaN层之间受激产生了表面等离激元(surface plasmons,SP),而且当等离激元的谐振频率与量子阱的发光频率相近,表面等离极化激元(surface plasmons polariton,SPP)耦合的能量将显著增加,这可显著提高LED的内量子效率,从而提高LED的发光效率。这种提高LED内量子效率的机理也被称为珀塞尔效应[16-17]。OKAMOTO等人在P-GaN层放置的Ag薄层仅能激发SP中的局域表面等离激元(localized surface plasmon,LSP),而SPP因为缺乏额外的波矢补偿,所以无法被激发[17-18]。

因为利用珀塞尔效应提高LED的内量子效率相对外延技术具有成本低、技术难度低等优势,因此逐渐被人们所采用。为了能够同时提高LED的内量子效率和光提取效率,许多课题组提出在利用珀塞尔效应提高LED内量子效率的同时,在LED出光面放置光栅,如在Ag薄层上制备一层介质光栅、在出光面分别制备金属光栅和介质光栅等[19-20]。因为在出光面制备光栅不仅能够让更多的光子逃逸出LED器件,而且还能够为激发SP中的表面等离极化激元提供额外的波矢以提高内量子效率。 经过数值模拟和实验验证发现,这些方法都可同时显著提高LED的发光效率和内量子效率。

但是,目前许多同时提高LED内量子效率和光提取效率的方法在工艺实现上存在一定的难度[19-21]。如参考文献[21]中提出在P-GaN层上制备金属半圆凹面光栅和凸面介质光栅,这会增加制备工艺难度。为此本文中提出一种结构简单、工艺难度较低且波长约为460nm的SP增强型LED(SP-LED),它由二氧化硅(SiO2)缓冲层、金属Ag构成的矩形光栅、铟锡氧化物(indium tin oxide,ITO)以及GaN LED芯片构成。通过时域有限差分法(finite-difference time-domainmethod, FDTD)模拟计算后发现,本文中提出的SP-LED在波长460nm处的发光效率是仅有一层Ag薄层LED的30倍。

1 理论分析及器件结构

1.1 理论分析

本文中提出的SP-LED发光原理如图1所示。相比于普通的LED,该LED除了辐射复合能够产生光子外,还能通过珀塞尔效应即通过SP与量子阱耦合产生更多的光子。与此同时,SP-LED因为具有光栅结构,所以除了在全反射临界角以内的光子可以逃逸出LED器件外,临界角以外的光子也可从LED器件中被提取出。

因为SP-LED在出光面添加了金属光栅结构,所以可以同时激发SP中的SPP和LSP,当SPP和LSP的谐振频率与量子阱的频率重叠时,SPP和LSP可以与量子阱耦合,从而激发出更多的光子,因此LED的内量子效率将会得到提高。具体也可由下式表示[20]:

(1)

(2)

式中,krad,knon和kSP分别是辐射复合速率、非辐射复合速率和量子阱与SP的耦合速率,d是电子与空穴的偶极矩,h是普朗克常数,ρ(ω)是SP的态密度,E(ω)是SP在介质层中的电场,ω为入射光角频率。当SP被激发后,SP周围可以产生强烈的电场,并且可以提供非常大的ρ(ω),这就会导致kSP急剧增加,可极大地提高内量子效率ηint。添加金属光栅除了可以提高LED的内量子效率,也可以提高LED的光提取效率ηext。SP-LED的光提取效率表达式为[20-21]:

(3)

式中,Cext是光提取效率,CSP是SP光提取效率。为了能够提高CSP,许多课题组选择在金属薄层或光栅下方添加一层介质层,这样可以减少金属薄层或光栅对光子的吸收。

1.2 器件结构

本文中提出的SP-LED具体结构如图2a所示。从图2a中可以看到,SP-LED自下而上分别是蓝宝石衬底、N-GaN层(厚度为400nm)、多量子阱(multiple quantum well,MQW)、P-GaN层、SiO2缓冲层、金属Ag光栅和ITO层。MQW是由5对InGaN/GaN构成。SiO2层的厚度为20nm;Ag光栅的厚度、周期和宽度分别为h2,p和w;h1是ITO层厚度、h3是P-GaN层厚度。图2b是仅有一层Ag金属薄层的GaN LED结构(Ag-LED)。在利用FDTD软件模拟计算时,GaN,ITO,SiO2的折射率分设为2.5,2,1.45。而金属Ag的介电常数则从参考文献[22]中获得,如图3所示。

Fig.2 Structure of LED

Fig.3 Refractive index and extinction coefficient of Ag

对于本文中提出的SP-LED在将来实验制备中工艺也较为简单,首先通过外延设备生长出GaN LED芯片,然后通过等离子体增强化学的气相沉积法在P-GaN上生长一层SiO2层,紧接着利用磁控溅射生长一层Ag薄层,随后利用电子束光刻技术制备出Ag光栅结构,最后通过外延技术在Ag光栅中填充ITO。

2 结果与讨论

2.1 光栅的优化与分析

为了保证Ag光栅能够对光具有高透射率,以提高LED的光提取效率ηext,需对SP-LED模型中的金属光栅结构进行优化。因此首先利用FDTD软件在x-y界面建立包含有P-GaN层、SiO2层的金属光栅物理模型,然后在x方向添加周期性边界条件,在y方向添加完美匹配层边界条件,z方向默认为无限长。入射光偏振为TM偏振。图4是光栅宽度w和光栅高度h2对光透射率的影响。此时p=0.3μm,h1=0.2μm,h3=0.3μm。从图4a中可以发现,当h2=0.2μm时,随着w的减小,光栅对波长460nm的透射率会逐渐增加;当w=0.17μm时,光栅对波长460nm的透射率不足0.4;但是当w下降到0.1μm时,光栅对波长460nm的透射率可以接近为1。另外从图4b中可以发现,当w=0.1μm时,随着h2的下降,光栅对波长460nm的透射率也会相应增大,如当h2=0.3μm时,光栅对波长460nm的透射率约为0.8,但是当h2下降到0.2μm或者0.1μm时,光栅对波长460nm的透射率就接近于1。

Fig.4 Influence of grating parameters on grating transmittance

之所以随着w或者h2的下降光栅对波长460nm的透射率会增加,这是因为当金属光栅过于宽或者厚时,金属对光的损耗会增加。但是并不能一味地把金属光栅减薄或者缩窄,因为光栅过于的小会增加器件制备的难度。因此将w和h2都分别限定为0.1μm。而之所以会将h2限定为0.1μm,除了工艺要求外,其实从图4b中可以发现,当h2=0.1μm时,金属对不同光波长都能维持高透射率。

除了光栅参数对光波长透射率有影响,P-GaN层厚度和ITO层厚度对光栅透射率也有显著影响,如图5所示。图5a是ITO层厚度h1对光栅透射率的影响,经模拟计算可知,当h1=0.2μm时,光栅对波长460nm的透射率可以达到最优。图5b是P-GaN层厚度h3对光栅透射率的影响,从图中可以看到,随着h3的增加,光栅透射曲线会出现红移现象,为了保证光栅对波长460nm透射率最大,本文中选择h3=0.4μm。

对金属光栅优化后需对金属光栅SP模式的传输特性进行探究,以确保金属光栅可激发SP以提高LED的内量子效率ηint[19]。对SP模式传输特性的研究,需要计算金属光栅的-1阶透射率随入射角的变化情况,结果如图6所示,此时入射光波长为460nm,p=0.3μm,w=0.1μm,h1=0.2μm,h2=0.1μm,h3=0.3μm。从图6a中可以发现,在入射角从30°增加到90°过程中,金属光栅在光入射角50°~60°之间激发了SPP,而在85°~90°之间激发了LSP。图6b是Ag-LED的-1阶透射率随入射角变化的情况。从图中可以发现,图2b中的LED结构仅在入射角50°~60°之间激发了SPP,但是在85°~90°之间并未激发LSP。之所以从入射角30°开始计算,是因为当入射角超过27°后光栅仅有-1阶透特性。

Fig.5 Influence of h1 and h3 on the transmission of grating

Fig.6 -1 order transmission characteristics

将图6a和图6b进行对比可以发现,优化后的金属光栅对于-1阶的透射率要比Ag-LED要高,这也侧面证明了优化后的金属光栅在提高LED内部光子的提取效率方面确实能起到非常大的作用。之所以优化后的金属光栅在对于-1阶的透射率要高,是因为金属光栅下方有SiO2层,而且金属光栅上方具有ITO层,这相当于在金属光栅层上下形成了折射率相对对称的光波导结构。

为了证明图6计算结果的正确性,接着计算了金属光栅在波长为460nm时电场分布,结果如图7所示。从图7中可知,当入射光照射到金属光栅后,确实既能激发SPP又能激发LSP。因为在不仅在金属光栅表面具有很强的电场分布,而且金属光栅下方的介质层中也有很强的电场分布,这分别是明显的SPP和LSP被激发的特征[23-24]。且因为金属光栅下方添加了SiO2层,这可以让更多的电场分布在介质层中,减少金属光栅对电场的吸收,这有助于提高CSP。

Fig.7 Electric field distribution of Ag grating

2.2 LED器件分析

对金属光栅优化与分析后,基于FDTD软件将光栅与蓝光LED相集成,具体结构可见图2a。将偶极子光源放置于MQW当中,用于模拟有源区电子与空穴的复合。随后利用分析模块的transmission box传动箱收集从LED器件中各个方向逃逸出的光子能量,用于计算LED的发光效率。

为了方便表述,定义了增强因子f,其主要表示的是SP-LED发光效率与Ag-LED发光效率的比值。 经模拟计算发现,图2a中SP-LED的发光效率在波长460nm处是图2b中的30倍,即增强因子f可达30,如图8所示。从图8中可以发现,虽然SP-LED发光效率与Ag-LED发光效率的比值在波长460nm相差最大,但是在其它波长处,SP-LED发光效率也都高于Ag-LED发光效率,即f在波长440nm~500nm下都大于1。之所以SP-LED的发光效率能够得到显著提高,是因为金属光栅经过优化后可以大幅提高LED的光提取效率,而且因为优化后的金属光栅可同时激发SPP和LSP,这又帮助了LED内量子效率的提高。

Fig.8 Enhancement factor of LED

3 结 论

为了同时提高GaN LED的内量子效率和光提取效率,本文中在GaN LED出光面放置了一层有金属Ag和ITO材料构成金属光栅。基于FDTD软件对金属光栅进行了优化分析,经模拟计算发现,当p=0.3μm,w=0.1μm,h1=0.2μm,h2=0.1μm,h3=0.3μm时,金属光栅对波长460nm的透射率可达到最优,接近为1。计算了金属光栅的-1阶透射率,发现金属光栅在光入射角50°~60°之间激发了SPP,而在85°~90°之间激发了LSP。通过上述计算可知,通过在LED出光面添加介质光栅,可同时提高LED光提取效率和内量子效率。最后计算了两种类型LED的发光效率,经计算可得,在波长440nm~500nm之间SP-LED发光效率都高于Ag-LED发光效率,且在波长为460nm时,增强因子f可达30,即SP-LED发光效率是Ag-LED发光效率的30倍。

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