第二届全国磁共振分子成像研究与应用高层论坛暨第三届全国磁共振新技术应用与管理研讨会征文通知

由磁共振成像杂志编委会发起主办，国药励展展览有限公司、中国生物物理学会分子成像学专业委员会、中华医学会放射学分会磁共振学组、中国科学院深圳先进技术研究院、中国现代诊疗产业技术创新战略联盟等单位联合主办的第二届全国磁共振分子成像研究与应用高层论坛暨第三届全国磁共振新技术应用与管理研讨会定于2013年4月中旬在深圳市国际会展中心召开，参会者可获国家级继续医学教育I类学分。

此次会议在全国著名的医疗器械展——第69届中国国际医疗器械(春季)博览会期间召开，与会代表可参观展览。

磁共振分子影像学是一个快速发展的前沿交叉学科，尚存在许多技术难点亟待解决。如何有效地将其应用到临床上，常常需要进行跨学科、多角度的交叉与合作。本次学术活动宗旨在于建立磁共振分子成像最新技术和成果交流与应用合作平台，探讨磁共振显微成像(MR MI)的发展方向。主要形式为讲座(主题讲座)、交流和讨论(主题论坛，研究生论坛)等。大会将诚邀国内外知名分子影像学专家学者，围绕磁共振分子影像学的新理论新技术研究现状、未来发展方向及其重大意义等多方面展开研讨和讲座。现征文通知如下。

征文范围：磁共振分子成像相关的 DWI、PWI、MRS、SWI等临床、科研成果，科研项目设计与申请，科研平台建立，国内外医学影像学术期刊投稿、审稿经验分享等。稿件要求：稿件内容未公开发表且不涉及保密。稿件可为800字以内的摘要(按目的、方法、结果、结论四要素撰写)，也可为带中英文摘要的论文全文。如需发言请注明。收稿邮箱：editor@cjmri.cn或cjmri@126.com。投稿时E-m ail主题请注明：“第一作者姓名+C MR MI-2013+题目”。截稿日期：2013年3月31日。稿件处理：经审阅合格者在会议汇编刊发。部分优秀论文可推荐至磁共振成像杂志等期刊发表。

会务组将向作者邮寄大会正式通知。

(大会组委会)