光刻机
- 光刻机龙头的沉浮变迁（上）
特尔也有自己的光刻机部门，买一些零部件便能自己组装。1961年，美国GCA造出了第一台重复曝光光刻机，能够定位到1微米的精度，远超当时25微米的精度。光刻机从此开始迈入专业化，GCA在20世纪60年代占据了60%-70%的市场份额。飞利浦以3万美元一台购买GCA的设备为起点，开始研究光刻机，飞利浦那时是一家著名的芯片制造厂，诺基亚和爱立信等都是其客户。飞利浦对市场上的镜头开始检测，发现德国蔡司的镜头质量最好，但蔡司对这么小的订单并不感兴趣，飞利浦退而求次找
证券市场周刊 2024年3期2024-01-25
- 解剖“中国蔡司”
心设备EUV 光刻机。但无论麒麟芯片是用什么类型的光刻机制造，工艺如何，激动人心且令人期待的是一直拦在国内芯片制造产业发展航线上的那座巨型冰山，已经开始出现了裂缝。最近的资本市场，在华为产业链带动下，国产光刻机概念又被重新市场关注。光刻机，被誉为是目前人类制造出的“最精密的仪器”，也是芯片半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场长期荷兰ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断，而目前最先进的具有波长为13.5nm 的极紫外光刻系统的EUV
英才 2023年6期2024-01-10
- 别把刻蚀机和光刻机混为一谈
分布图刻蚀机和光刻机大不同在 5G、AIoT 等新兴技术合力推动下，产业智能化进程加速，下游应用市场需求迸发，拉动着全球半导体需求放量上涨，反向驱动上游半导体制造设备需求和技术更迭。据方正证券报告预计，全球晶圆制造设备（WFE）市场规模将达到850 亿美元量级。SEMI 预测2025 年全球刻蚀设备市场规模将增长至155 亿美元（约合超1000 亿元），CAGR 约为5%。在这样的背景之下，網络上出现一些内容，报道中微发布了最新的EUV 光刻机，这是真的吗
电脑报 2023年24期2023-06-28
- 基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究
，杨梦雨，王茜光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是大规模半导体制造的核心设备，它的精度决定了芯片制程的精度，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司，而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产，最高能支持2nm芯片的制造，而我国光刻机领域最为领先的上海微电子装备公司目前仅能生产90nm工艺制程的光刻机。我国在光刻机领域与国外存在较大差距，因此，对于光刻机领域的全
华东科技 2022年12期2023-01-10
- 向中国出口光刻机 荷兰阿斯麦力抗美国
出口禁令影响，光刻机巨头荷兰阿斯麦（ASML）第三季度订单减少，在阿姆斯特丹证交所的股价近期大跌。彭博社称，华盛顿近日公布多项芯片禁令，限制向中国出售先进半导体和芯片制造设备，禁止美国人帮助中国发展芯片技术，并试图拉拢包括ASML在内的欧洲企业共同制裁中国。美国CNBC网站透露，美国正在游说荷兰刻政府 止ASML机禁对华出售一些旧款光，但该公司始终没有同意这一要求。面对美国的无理施压，ASML为何有底气向华盛质说不？阿斯麦的分量美国商务部负责出口管制的工业
环球时报 2022-10-312022-10-31
- ASML全新光刻机准备中：冲击2nm工艺
芯片厂商而言，光刻机显得至关重要，而ASML也在积极布局新的技术。截至 2022 年第一季度，ASML已出货136个EUV系统，约7000万个晶圆已曝光。按照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统 NXE：3600D将能达到93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光刻机（95%的可用性）。数据显示，NXE：3600D系统每小时可生产160个晶圆 （wph），速度为30mJ/cm，这比 NXE：3400C高18%。正在开发的 NXE：3800E系统最初将以30
电脑报 2022年26期2022-07-12
- 中国技术生态链在美重压下快速形成
要求荃球最大的光刻机生产企业阿斯麦公司(ASML）禁止向申国出售深紫外线光刻机(DUV),从而把对中国光刻机的禁售范围从先进制程的极紫外线光刻机(EUV)扩大到普遍使用的DUV,目的就是全力遏制正在崛起的中国芯片产业。短期而言，一旦ASML真的作出禁售决定，将对中国芯片产业发展产生一定阻碍。今天先进制程5nm、3nm的芯片生产需要EUV，这样才能进行大规模先进制程芯片的生产，以往美国也把EUV作为主要限制对象。但是在日常生活中，大部分产品需要的不是7nm以
环球时报 2022-07-082022-07-08
- 今天能否像研制“两弹一星”那样攻克光刻机？
订购一款极紫外光刻机，之后因为美方阻挠而不可得。这一“半导体工业皇冠上的明珠”的重要性由此凸显。极紫外光刻机（EUV）能完成7纳米以下先进工艺的雕刻，荷兰的阿斯麦公司是这一类型光刻机的全球独家生产商。没有先进光刻机，就意味着华为先进制程的手机芯片难以制造。而目前，国内能量产的是90纳米工艺节点的光刻机，较国外落后了数个技术代。整个芯片制造过程，可能需要数十次光刻，光刻工艺成本约为整个芯片制造工艺的30%，耗时占整个芯片生产环节的 40%～50%。光刻机是芯
中国新闻周刊 2022年20期2022-06-14
- Intel扩建厂房安装ASML下一代EUV光刻机
NA）EUV光刻机TWINSCAN EXE：5200 EUV创造必要条件。和服务Intel 3/4工艺的NXE 3000系列EUV光刻机相比，EXE 5200大了很多，突破了D1X原“天花板”。回到18A工艺制程，提速后最快可以在2024年第三季度登场。其实按照Intel之前多年“老实”的命名习惯，其对应5nm+。外界倾向于认为，18A对应18埃米，也就是1.8nm，对标的是台积电2nm。今年开始到2024年，Intel的制程迭代将会非常紧凑，下半年会有
电脑报 2022年15期2022-04-28
- 你知道吗
面实现碳中和。光刻机提到芯片，大家都不陌生。电脑、手机和科幻电影中未来人工智能的大脑，其核心零件都是芯片。芯片上那些几十纳米的线条是用刀刻还是用手工做？都不是，它们是用光线刻出来的。科学家找到一种见光“易溶解”的特殊胶片，在芯片上涂上这种特殊胶片，拿一个圆圈光照上去，再经过后续处理，这个芯片上就有了一个圆圈。光刻机就是用这种胶片刻图形的。一种特定图形如何打到胶片上？其原理与皮影戏一样：一个剪纸被灯光一照，就映在幕布上;光刻机里做这样的“剪纸”，拿光源一照，
初中生学习指导·提升版 2022年3期2022-03-19
- 国产光刻机企业官宣年产150台？从0到1的艰难破局路
国产光刻机企业官宣年产150台光刻机，听着有些像“天方夜谭”的事情却是来自企业官方的消息。前不久，源卓微电子装备有限公司举办了DiSS系列数字光刻机投产仪式，其将在湖南常德启动总投资2亿元的生产线项目，主要投产自主研发的DiSS数字步进扫描光刻机，2022年预计年产150台设备。熟悉或者留心光刻机市场的小伙伴一定清楚，即便是ASML一年的产量也达不到150台，可为何一家不甚知名的国产光刻机企业能做到呢？冷静下来仔细分析会发现，这150台国产光刻机总价值2亿
电脑报 2022年5期2022-02-15
- 光刻机之王登峰之路
导体设备公司—光刻机设备制造商ASML（阿斯麦）。这家公司的成长经历颇为传奇，成立初期便遇上半导体低谷期，一台设备都卖不出去，亏损近10年，一度徘徊在生死边缘，在老东家飞利浦眼里食之无味，弃之可惜。但顽强的ASML最终挺了过来，逆袭成為当下光刻机领域的绝对王者，目前在高端光刻机市场占据90%以上份额，成为现在EUV光刻机唯一的供应商。本文将结合光刻机发展历程，呈现如今38岁的ASML是如何一步步登峰的。芯片产业是信息时代的基石产业。有了更先进的光刻机，人类
商界评论 2022年8期2022-02-10
- 全球缺芯影响几何？
工艺一直受制于光刻机，全球光刻机制造巨头阿斯麦中芯表示，中芯国际只能买DUV光刻机，而与极端紫外线光刻机（EUV）无关。当下之际，阿斯麦独家垄断EUV光刻机，7nm以下的光刻机的芯片需要EUV光刻机。汽车所使用的芯片重视的是成熟度，并不是高精尖的7nm的芯片。当前将中芯国际所拥有的14nm芯片制造工艺用于生产汽车芯片，并没有多大的压力，所以外界一般认为在这一场汽车芯片紧缺中，中芯国际将会有很大的受益。从中美博弈的角度看，由于自己的经济利益受损美国已经放开了
福建轻纺 2021年3期2021-12-04
- 电子制造装备领域及其行业竞争者专利分析
间。本文针对以光刻机、化学机械研磨设备、离子注入机及湿法设备为代表的电子制造装备，依托Incopat专利数据库开展分析，包括电子制造装备领域专利态势、行业主要竞争者分析，提出关于我国电子制造装备领域的未来发展方向的建议。关键词：电子制造装备 光刻机 化学机械研磨设备 离子注入机 专利分析 竞争者分析中图分类号：F273 文献标识码：A 文章编号：1674-098X（2021）07（a）-0055-05Patent Analysis of Elect
科技创新导报 2021年19期2021-11-23
- 光刻巨人：ASML崛起之路
80年代，美国光刻机巨头Perkin-Elmer和GCA在芯片光刻市场上遭到了日本竞争对手佳能和尼康的猛烈攻击。结果，美国失去了对这项关键技术长达20年的垄断地位，而这正是摩尔定律背后的驱动力。与此同时，一家默默无闻、无足轻重的光刻机小公司在荷兰刚刚起步。这家公司就是ASML，它在今天获得了无与伦比的成功。作为世界上很大和很赚钱的光刻机制造商，ASML取得了70%—80%的光刻市场份额，并多年来在光刻技术上一骑绝尘，将佳能和尼康远远甩在后面。在《光刻巨人：
华东科技 2021年11期2021-11-23
- 日本为何弄丢了高端光刻机市场
世纪初还占据了光刻机的大部分市场，而阿斯麦尔在1988年才正式独立。历史这么短的阿斯麦尔却在2010年占到了80%的市场份额，把日本公司退逼到了17%。当然，日本公司还没被完全赶出市场，还在制造中低端光刻机。但光刻机行业的利润主要集中在两种最先进的机种上。之所以发生了这么大的逆转并不是因为阿斯麦尔掌握了什么黑科技，而是在顾客、企业体制和企业文化等技术外因素上。2005～2010年，英特尔的进货量占尼康销售额的半数以上，东芝占了20%，阿斯麦尔的顾客则依次为
领导文萃 2021年19期2021-11-05
- 布局光刻机到底需要补齐哪些短板？
，被认为是布局光刻机的一步迈进;而诸如SMEE（上海微电子装备）的进度、整个光刻机领域目前存在的短板，也成为焦点中的焦点。“半导体皇冠上的明珠”在当下，“光刻机”作为关键词出现时，往往自带各种前缀，比如“半导体产业皇冠上的明珠”，再比如“卡住中国芯片脖子的关键”。这些修饰语无不展示了光刻机在芯片领域的地位之高，而因为头部效应，占得先机的大佬对于后来者的压制可以说是压倒性的。光刻机原文“Mask Aligner”，直译为掩模对准曝光机，在半导体生产中占据无可
新潮电子 2021年7期2021-08-14
- 日本为何弄丢了高端光刻机市场
还在制造中低端光刻机。但光刻机行业的利润主要集中在两种最先进的机种上。之所以发生了这么大的逆转并不是因为阿斯麦尔掌握了什么黑科技，而是在顾客、企业体制和企业文化等技术外因素上。2005～2010年，英特尔的进货量占尼康销售额的半数以上，东芝占了20%，阿斯麦尔的顾客则依次为三星、海力士和台积电。尼康客户主打复杂度高、需要在生产时进行微调的微处理器这样的专用产品，阿斯麦尔用户则主打闪存这样的更注重操作性和统一性的通用产品。尼康和阿斯麦尔采用的系统结构也不同，
中国新闻周刊 2021年25期2021-07-21
- 战略投入与制造业生态体系：ASML光刻机崛起的启示
息产业的基础，光刻机是用来制造芯片的关键设备。近年来，中国的信息技术产业得到长足发展，华为等公司已经具备较强的芯片设计能力，但中国的制造业尚无法将芯片设计有效转化为产品，其中的困难就包括缺乏光刻机等核心设备。目前，全球的高端光刻机几乎被荷兰ASML（阿斯麦）公司所垄断。ASML光刻机的禁止出口，给中国的芯片生产造成了极大的障碍。为了解决“卡脖子”问题，中国工业必须攻克光刻机等关键设备的制造，而ASML本身的崛起历程，仍是一场典型的制造业“工匠革命”，提供了
中国信息化 2021年4期2021-05-07
- EUV光刻机：在微妙之间竞赛
导体巨头、全球光刻机领头企业阿斯麦（ASML）首席财务官罗杰·达森对向中国出口光刻机的问题作出了表态。他表示，阿斯麦可以从荷兰向中国出口DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。但讲话并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。芯片竞赛的火热，带着背后低调的光刻机也频频出圏。小小的芯片，不过拇指盖大小，却能在几十平方毫米的空间里，运行几十亿个晶体管。其中之精妙，令人惊叹。在芯片制造中，光刻机是无法绕开的核心设备。我们可以将光刻机理解成一个成像设备，它将光源照射到设
风流一代·经典文摘 2021年4期2021-04-23
- 芯片荒令半导体制造商利润大增
时，全球最大的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布的最新财报显示，该公司2021年第一季度的利润大涨近八成。财报显示，阿斯麦一季度营收43.64亿欧元，去年同期为24.41亿欧元，同比增长79%。当季净利润13.31亿欧元，是去年同期的三倍多。阿斯麦第一季度售出73台新光刻机系统，订单金额为47亿欧元。阿斯麦总裁兼首席执行官彼得·温宁克表示，主要原因是当前全球芯片短缺导致客户需求不断扩大。“和三个月前相比，我们发现所有细分市场和产品组合的需求都显著增加，预计
环球时报 2021-04-222021-04-22
- 成功的前夜总是漆黑和漫长的
许多人初次听说光刻机，是从华为、中兴、海康威视等国内科技龙头企业遭遇川普政府“绝命锁喉拳”开始的。也是自那时起，脑补“阿斯麦”——一家与光刻机有关的荷兰企业的相关信息在最近几年尉成风气。本书作者瑞尼·雷吉梅克是名科技记者。从2003年第一次采访阿斯麦员工起，瑞尼花了整整7年的时间写这本书，仅采访录音就积累了300小时。这是一本描述科技企业的创业创新史，虽然光刻知识的专业门槛甚高，但奋斗的故事是相通的。透过本书，读者能够真切感受到光刻机市场的波谲云诡：阿斯麦
产权导刊 2021年3期2021-04-20
- 2021年了国产芯片制造还难吗？
不开的关键设备光刻机，我国同样是在1979年成功研发了国产光刻机JKG-2。但是依靠逆向工程和有限研发，很难形成有规模的产业结构。到了20世纪80年代，产量持续低迷、内需不高，都让我国的芯片制造迭代升级不足。进入20世纪90年代，中国的计算机企业虽然已经形成了一定数量规模，但多数还是以销售、服务为主，真正拥有硬件生产能力的企业还不到5%。显然在电子行业中，我国在过去几十年里，并没有意识到芯片制造的重要性。尽管有了庞大的市场规模，以及逐渐成熟的商业机制，但我
微型计算机·Geek 2021年3期2021-04-18
- 中国芯：道阻且长，行则将至
言，“器”就是光刻机。时下，全球能够生产高端光刻机的，唯有荷兰阿斯麦独占鳌头。EUV光刻机一台报价高达10亿美元！还因国家而异，商贾选边下菜碟，不卖给你想要的货。世人皆知，当今世界没有任何一个国家可以独立制造芯片，芯片产业是各国先进技术集智集优的结晶。即使美国在芯片业占主导地位，也无法独立造出。在芯片生产中，光刻机必不可少。尽管目前荷兰阿斯麦（ASML）是世界上唯一有能力生产高端紫外光刻机的公司，但在其17家核心供应商中，一半源自美国，其余为德国、瑞典、法
中关村 2021年2期2021-03-15
- 解密光刻机巨头ASML的崛起之路
L不仅将昔日的光刻机大国美国、日本拉下神壇，还垄断了全球7nm及以下工艺的EUV光刻机技术。ASML如何实现一路反超？为何如今只有它拥有先进的光刻机技术？ ASML的成功能否被复制？荷兰Techwatch媒体公司CEO、荷兰高科技学院董事总经理瑞尼·雷吉梅克历经7年采访整理出的《光刻巨人：ASML的崛起之路》一书，揭开了ASML秘密的一角。在接受《中国经济周刊》记者采访时，雷吉梅克表示，中国可能需要很长时间才能制造出晶圆步进器。但中国拥有足够的资金和知识储
中国经济周刊 2021年4期2021-03-09
- 雷吉梅克：如果没有限制，中国肯定能在5至10年内完成追赶
代EUV或芯片光刻机。《中国经济周刊》：ASML在世界各地都有供应商，甚至有人认为ASML所做的只是集成各种设备。您认为，使ASML成为全球领导者的核心竞争力是什么？在其与世界各地供应商合作的背景下，为什么其他公司不能生产先进的光刻机？雷吉梅克：ASML“只是集成各种设备”是一个谬论。ASML最初只是一家小公司，除了外包生产（如精密零件和镜片）和购买标准零件（如激光器、传感器等）外，别无选择。它的核心竞争力是其发明、设计和生产非常复杂的系统的能力。集成所有
中国经济周刊 2021年4期2021-03-09
- 芯片制造为什么难
。芯片制造，“光刻机”是绕不开的终极神器。可以说，没有光刻机就没有芯片。若干年来，依赖无数人才的奋力追赶，中国的芯片设计和制作工艺，发展得并不慢。芯片之难，实则难于芯片制造。制造光刻机有多难？因为精度之高，所以要以“光”为刀进行雕刻，目前的7nm（纳米）精度，相当于把一根头发丝劈成几万份。有资料显示，1台光刻机包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器。光源产生极紫外光EUV的难度相当于在飓风中心，以每秒5万次的频率用乒乓球击中同一只苍蝇两次。光刻机
意林 2021年1期2021-02-08
- 光刻机 信息时代的制造之王
一层均需要使用光刻机进行图形转移套刻曝光，以便形成原始图形。其中，第一层需要将掩模版图形与基片外形对准曝光，其后的各块掩模版需要与基片上前面已完成的图形或结构对准套刻曝光。此外，每一层所需要的掩模版也是由光刻机制造的，所以，光刻机是芯片制造的母机。也可以说，光刻机是信息时代的制造母机，对芯片制造具有极大的影响。芯片前道工艺不仅需要光刻机，还需要匀胶机、烘烤设备、清洗设备、薄膜设备（PVD、CVD、EVD、PECVD、MOCVD等）、刻蚀设备（反应离子刻蚀、
百科知识 2020年22期2020-12-04
- 光刻机机箱EMC电磁兼容解决方案
广领摘 要：光刻机是一种高度精密、高度集成，包含很多电力电子器件的设备。其主要控制器件几乎全部集成在各种机箱里。因为各种元器件安装密集度很高，导致各种电力电子器件之间的电磁干扰问题越来越突出，严重影响光刻机整台设备的性能和MTBF指标。因此，光刻机的机箱必须具有较高水平的电磁兼容能力，才能保证整台设备的EMC性能，所以解决光刻机各种机箱电磁兼容性是刻不容缓的一个课题。关键词：光刻机;EMC;EMI;屏蔽;滤波;接地中图分类号：TN03 文献
科技创新与应用 2020年33期2020-11-23
- 光刻机巅峰对决
，在摘取EUV光刻机这颗宝石的道路上狂奔。而一代霸主尼康，自此彻底零落在光刻机制造史的尘埃之中。在芯片领域，有一种叫光刻机的设备，不是印钞机，却比印钞机还金贵。历数全球，也只有荷兰一家叫做阿斯麦（ASML）的公司集全球高端制造业之大成，一年时间造得出二十台高端设备，台积电与三星每年抢破了头，中芯国际足足等了三年，也没能将首台EUV光刻机迎娶进门。其实，早在上世纪80年代，阿斯麦还只是飞利浦旗下的一家合资小公司。全司上下算上老板共31位员工，只能挤在飞利浦总
中国工业和信息化 2020年7期2020-11-09
- 中国光刻机崛起之路
李瑶什么是光刻机简单来说，光刻机就是以光作为刀片，在晶圆上刻画芯片图纸的机器，是芯片生产加工最基础也最关键的一环。中国光刻机崛起的故事，则要回到20年前。2001年2月27日，中科院院士、北京大学微电子研究院院长王阳元作了一场关于“微电子科学技术和集成电路产业”的报告，分析我国发展微电子和集成电路产业的必要性、紧迫性、措施和建议。当时主持会议的国务院领导在听取报告后，随即提出：集成电路是电子产品的“心脏”，是信息产业的基础，必须高度重视。很快，光刻机成为“
华声文萃 2020年10期2020-10-21
- 光刻机工件台定位平台结构设计
锦凯摘要：针对光刻机工件台易受到微小震动而引起图像偏差的问题，对工件台定位平台的结构进行了优化设计，同时改进了工作台的调节方式，对今后光刻机工件台的研究与改进具有良好的借鉴意义。关键词：光刻机;定位台;三轴联动0 引言本文针对光刻机自动修改定位存在误差的问题，以光刻机工件台定位平台为研究对象，以接触式光刻理论、1：1全反射投影光刻技术、反射投影技术、电子光刻技术等作为理论与技术支撑，在此基础上完成了光刻机工件台定位平台的结构设计。结合测量反馈系统，本设计主
机电信息 2020年8期2020-10-21
- 光刻机打破ASML垄断还要多久？
者得天下”，而光刻机对芯片制造工艺的进步至关重要。光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，其研发成本和制造难度巨大，高端的EUV光刻机更是光刻机中技术含量最高的设备。目前，全世界只有ASML（阿斯麦）一家厂商可生产EUV光刻机，EUV光刻机全球出货量已达57台。这种一家独大的情况是否正常？其他厂商距离打破ASML高端光刻机的市场垄断还有多远的路要走？ASML在高端光刻机市场“一家独大”目前市场上主流的半导体光刻机供应商有荷兰的ASML、日本的Nikon（尼康）
中国电子报 2020年56期2020-09-13
- 中国光刻机崛起之路
性工具——国产光刻机，也被成功推上了科技圈的热搜榜。什么是光刻机简单来说，光刻机就是以光作为刀片，在晶圆上刻画芯片图纸的机器，是芯片生产加工最基础也最关键的一环。中国光刻机崛起的故事，则要回到20年前。2001年2月27日，中科院院士、北京大学微电子研究院院长王阳元作了一场关于“微电子科学技术和集成电路产业”的报告，分析我国发展微电子和集成电路产业的必要性、紧迫性、措施和建议。当时主持会议的国务院领导在听取报告后，随即提出：集成电路是电子产品的“心脏”，是
文萃报·周五版 2020年31期2020-08-19
- 核桃上雕船不稀奇头发丝上能刻一个足球场!
光刻机，顾名思义，以光为媒，刻化微纳于方寸之间。利用光刻手段能刻画出头发丝直径1/5000的线条。古代人类通过手工方式在核桃上雕刻出一叶扁舟已属精妙绝伦，而利用信息时代的制造工具光刻机，我们能够在一根头发丝上刻画出一座足球场。光刻机这种“高精尖”的设备是不是曲高和寡，和我们离得很遥远了？其实不然，光刻机与我们生活息息相关，已经渗入我们生活的方方面面。我们用的电脑、电视显示屏之所以能够显示出色彩斑斓的各种图形，得益于光刻机在面板上加工的一个个像素图形;家用L
学生导报·东方少年 2020年5期2020-07-16
- 芯片之源
心设备之一——光刻机，也许你能从中窥斑见豹。还记得小时候我们曾经爱不释手的激光笔玩具吗？那时候为了一支心仪已久的激光笔，放学后可能要瞒着爸爸妈妈，偷偷摸摸地在学校附近的文具店里挑来挑去，最终将其藏在书包里层的口袋里，趁爸爸妈妈睡着的时候，悄悄地掏出来对着关了灯的小卧室的墙壁，展示着一个个光罩所变幻出的炫目图案！现在我们可以从简单的激光笔玩具开始，认识一下时下风头正劲的光刻机这种高大上的设备。光刻机又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，光刻的意思是用光来
第二课堂(初中版) 2019年11期2019-12-09
- 你愿意成为世界顶级光刻机的制造者吗？
时下风头正劲的光刻机。光刻机发出的光通过具有图形的光罩后，不是像我们的激光笔玩具那样照射到地面或者墙壁上显示出各种图案，而是对涂有一种对光线高度敏感的光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，将光罩上的图形复印到薄片上。看起来光刻机的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻机刻的不是照片，是大规模集成电路的电路图。光刻机的原理看似简单，但实现起来非常困难。就拿光刻机的反射镜来说，它的制造工艺就是一个难以攀登的高峰。它的误差大小仅能以皮
高中生之友(中旬刊) 2019年9期2019-10-23
- 7nm+EUV工艺大规模量产EUV光刻机能否走出一波行情
三代工艺EUV光刻机在5nm及以下工艺具有不可替代性，在未来较长时间内应用EUV技术都将成为实现摩尔定律发展的重要方向。光刻是集成电路生产过程中最复杂、难度最大也是最为关键的工艺，它对芯片的工艺制程起着决定性作用。193nm浸没式光刻技术自2004年年底由台积电和IBM公司应用以来，从90hm节点一直延伸到10nm节点，经历了12年时间，是目前主流的光刻工艺。但是进入7nm工艺后，它的制约也越来越明显，因此EUV工艺堂而皇之走上舞台。全球E13V光刻技术的
中国电子报 2019年72期2019-09-26
- “半导体制造业皇冠上的明珠”——光刻机
及很多设备，而光刻机是核心设备之一。光刻机将光束透射过画着电路图的掩模，经物镜纠正各种光学误差，将电路图成比例缩小后映射到硅片上，然后通过化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。小杰最近学习很用功啊！因为我做了一个重要的决定。什么决定呀？我要好好学习，以后为中国的科技进步贡献力量！真棒，我为你点赞！你知道吗1.把小到几十纳米乃至几纳米的电路图刻到几平方厘米的硅片上需要超精密的仪器，其中最重要的是光刻机和刻蚀机。2.光刻机是制造芯片第一步需要的设备，刻蚀机是第
少儿科技 2019年10期2019-09-10
- 工欲善其事 必先利其器
必先利其器”。光刻机的故事从产业链来看，芯片生产主要分为设计、制造、封测三大环节。 制造工艺包括光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等。在芯片制造流程中，光刻是最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。芯片制造的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程是通过光刻来实现的， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。据专家介绍，芯片在生产中需要进行 20次?30 次的光刻，耗时占到集成电路制造环节的 50%左右，占芯片生产成本的
中国新时代 2019年3期2019-07-08
- 全球光刻机发展概况以及光刻机装备国产化
201620）光刻机，被誉为人类20世纪的发明奇迹之一，是集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻机是一种夸张类型的单反相机，将该层次光掩膜版上的事实图形缩小几百万倍，并实际制造出来。最核心的是镜头，这个不是一般的镜头，可以达到高2 m、直径1 m，甚至更大。光刻机是集成电路制造中最庞大、最精密复杂、难度最大、价格最昂贵的设备。光刻机就是将光掩膜版上的设计好的集成电路图形（宏观）通过光线的曝光印制到硅衬底的光感材料（微观）上，实现图形
无线互联科技 2018年19期2018-10-25
- 科技芯痛
面的，如芯片、光刻机、光刻胶等。众所周知，芯片研发周期长，而生命周期短，起步晚的话，研发速度可能连摩尔定律都跟不上。芯片的制造更是涉及到设计和生产两个环节，生产环节还有晶圆和光刻机等诸多因素。上世纪90年代，国内曾投入数十亿元打造新的半导体制造线，这些“晶圆厂”耗时两年建造，结果刚建成就过时了。而光刻机更是不容小觑，这一芯片制造中的核心精密设备的科技含量可以与航空发动机并列，代表了科技发展的顶级水平，甚至被誉为集成电路产业皇冠上的明珠。光刻机产业目前处于高
中国信息技术教育 2018年17期2018-09-28
- 精密事业
最大障碍就是以光刻机为代表的集成电路制造的高端装备。光刻机，这个被周光召先生誉为新时代“两弹一星”的“神器”，以其极高的精度被业界看作是微细加工的“珠穆朗玛”，是实现《中国制造2025》计划“新一代信息技术产业”这一重点领域突破的大国重器。光刻机中最关键的两个子系统是超精密曝光光学系统和超精密工件台系统，它们分别代表了超精密光学和超精密机械的技术最高峰。光刻机的研制能力，不仅反映出一个国家的科技实力，也代表了一个国家的精密制造水平。国外业界曾认为，中国人现
科学中国人 2017年6期2017-07-31
- 磨砥刻厉，擎“皇冠明珠”国产化大旗
的高端设备——光刻机。为保障这批设备的运输，英特尔公司动用了6架包机，货运公司调用了6台减震车和数控温床，操作时的小心谨慎不亚于对待一级文物。你或许要问，光刻机是何方神物竟要如此“厚待”？这要从第一只晶体管说起……1947年，世界上第一只晶体管在贝尔实验室诞生，人类自此进入电子时代。此后，芯片被喻为这个信息时代的“发动机”，而光刻机就是制造“发动机”最核心的装备，每颗芯片的诞生，都要经过光刻技术的精雕细琢。光刻机的用途非常广泛，除了有用于芯片封装的后道光刻
科技创新与品牌 2017年2期2017-03-24
- 上海微电子：“智”造中国芯
中国芯宋 杰在光刻机领域，上海微电子装备有限公司不仅在先进封装光刻机产品方面形成了系列化和量产化，而且还实现了光刻机海外市场的销售突破随着信息产业的发展，集成电路（也就是常说的“芯片”）成为手机、平板电脑等电子移动终端离不开的设备，而光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备。以光刻机为代表的高端半导体装备支撑着集成电路产业发展，芯片越做越小，集成的电路越来越多，能使终端变得小巧玲珑。在光刻机领域，上海微电子装备有限公司（简称“SMEE”）取得了重要突破，并在
中国品牌 2016年4期2016-08-19
- 基于分数阶PID及内模原理的长行程直线电机控制系统设计
直线电机驱动的光刻机掩模台宏动台进行了仿真验证，验证了所提出的控制策略的有效性.关键词：分数阶PID控制；内模控制；控制系统设计；直线电机；光刻机长行程直线电机由于其驱动能力强、工作行程大的特点而被广泛应用于许多领域当中，其控制策略的研究也成为了一个研究热点[1-3].作为生产制造集成电路的最主要设备，光刻机是光、机、电一体化的尖端精密运动平台的代表，其中光刻机掩模台宏动部分在直线电机的驱动下实现承载硅片大行程运动，其精度要求需要达到微米级.为了达到要求精
天津工业大学学报 2016年1期2016-04-05
- 我国有了光刻机核心技术
我国有了光刻机核心技术对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。从清华大学获悉，国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”通过验收，使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。“简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘印入’基底材料，其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持”。“千人计划”专家、从事密码芯片研发的九州华兴集成电路设计公司首
电子工业专用设备 2016年5期2016-03-12
- 《中国制造2025》设定集成电路设备国产化目标
实现90 nm光刻机国产化，封测关键设备国产化率达到50%。在2025年之前，20～14 nm工艺设备国产化率达到30%，实现浸没式光刻机国产化。到2030年，实现450 mm工艺设备、EUV光刻机、封测设备的国产化。从产业链各环节国产化的难度来看，设备＞制造＞封装＞设计是不争的事实。不过，近期国内各地已刮起一阵大规模集成电路晶圆制造生产线的东风。我国半导体设备制造业要抓住这难得的契机，一举实现《中国制造2025》的既定目标。（来自：中国电子报）
电子工业专用设备 2016年8期2016-03-10
- 上海微电子“智”造中国芯
不开的设备，而光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备。以光刻机为代表的高端半导体装备支撑着集成电路产业发展，芯片越做越小，集成的电路越来越多，能使终端变得小巧玲珑。在光刻机领域，上海微电子装备有限公司（下称“SMEE”）取得了重要突破，并在先进封装光刻机产品方面形成了系列化和量产化，在国际同类产品中处于先进水平，还实现了光刻机海外市场的销售突破。SMEE也被列入国家发改委2016年1月底公布的国家认定企业技术中心名单。在微观世界里“造房子”近日，在浦东张江
中国经济周刊 2016年8期2016-03-02
- 光刻机双面对准精度测量系统
100176)光刻机双面对准精度测量系统李 霖，贾亚飞，张云鹏，杨建章(中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京100176)双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标，介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统，并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理，对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。测试测量技术；光刻机；双面对准精度；双面对准精度测量系统接触接近式光刻机主要用于功率电子器件、传感器、
电子工业专用设备 2015年3期2015-07-18
- 光刻机工件台宏微电机的非线性复合控制
150001)光刻机工件台宏微电机的非线性复合控制孙永倩1，陈德运1，刘川2(1.哈尔滨理工大学 计算机科学与技术学院，黑龙江 哈尔滨 150080; 2.哈尔滨工业大学 航天学院, 黑龙江 哈尔滨 150001)摘要：针对光刻机工件台长行程直线电机宏动和平面电机高精密微动的耦合运动特点，提出一种宏动跟踪微动的变增益非线性复合控制方法，实现系统高动态纳米级精度的跟踪定位。宏动长行程直线电机采用零相位跟踪前馈控制和双环控制，实现系统无静差跟踪加速度指令；利用
哈尔滨工程大学学报 2015年12期2015-02-18
- 基于人机工程学的光刻机嵌入式控制面板界面设计
611731)光刻机是一种典型的微电子设备，集成了光、机、电、算等多个学科领域，主要应用于集成电路、半导体元器件、光电子器件等的研发和制造［1］。光刻机控制面板所传递出的信息能否可靠地被使用者接受并被准确地反馈，直接影响光刻机的工作效率和使用者操作的舒适性。随着机械化、自动化和电子化的高度发展，人的因素在生产中的影响越来越大［2］，设计师们也越来越重视人、机、环境三方的和谐统一，设计适应光刻机使用者思维和行为方式且具有引导功能的光刻机控制面板显得非常重要。
机械设计与制造工程 2014年1期2014-09-06
- 上海卓晶半导体科技有限公司
Nikon二手光刻机的翻新改造业务，拥有原厂的核心技术，技术能力涵盖0.13～0.8μm的全系列光刻机，技术精良、服务快速高效，在国内的LED、IC等厂家已有多台销售和高端设备调试，以高品质受到市场好评，是目前国内pss以及高端Nikon光刻机翻新的首选厂家。上海卓晶半导体科技有限公司坚持技术创新，诚信，卓越的经营理念，努力为客户提供最适合的超值的产品和服务。
电子工业专用设备 2013年2期2013-08-15
- 投影光刻机在先进封装中的应用
有接近/接触式光刻机和1X步进投影式光刻机，它们都采用了宽波带曝光及基于机器视觉的对准技术，而步进投影式光刻机在CD均匀性、套刻精度、生产效率、成品率等方面的优势使其在先进封装工艺中扮演着越来越重要的角色。尤其当硅片尺寸逐渐增大到200 mm乃至300 mm时，步进投影式光刻机将更具吸引力，良好的全片一致性将大幅度提高封装器件在电气、机械等方面的可靠性。同时，步进投影式光刻机同样可用于一些MEMS、生物芯片等特殊的先进封装工艺，以满足先进封装技术革新要求。
电子工业专用设备 2010年3期2010-08-09