硫脲在电镀和化学镀中的应用

刘贺(肇庆国华电子有限公司，广东 肇庆 526040)

0 引言

在工业产业运行及持续发展的背景下，硫脲与贵金属存在着较强亲和力，将其运用在电镀工业产业中，不仅可以提高工业产业的运行效率，也会增强行业的竞争力，满足产业的持续运行及稳步发展需求。硫脲作为一种无色斜方晶体，在空气中容易发生潮解现象。应该注意的是，在硫脲使用中，其中的硫原子对贵金属有特殊的亲和力，可以在工业产业中形成相对稳定的配位化合物，因此，在电镀和化学镀中得到了广泛运用。本文对硫脲在电镀和化学镀中的运用进行研究。

1 硫脲、电镀及化学镀

1.1 硫脲

硫脲作为白色且有光泽的晶体，熔点在176～178 ℃之间，易溶于水，在加热的过程中可以溶于乙醇。将其运用在药物制造、树脂等产业中，可以促进产品研发，提高产品的生产质量，同时满足行业的运行及持续发展需求。但应该注意的是，在硫脲使用中，一次作用的毒性较小，在反复使用的过程中会造成器官损伤，同时也会对区域环境造成危害。

1.2 电镀

电镀主要是利用电解原理在某些金属便面上镀上一层金属或是合金，提高工艺材料的耐磨性及导电性。电镀过程中，其中的镀层金属作为阳极，将待镀工件作为阴极，实验中为了避免干扰隐患的出现，并保证镀层的均匀性、牢固性，需要对镀层金属中的溶液含量进行科学配比，保证金属阳离子浓度不变，提高电镀工艺的整体效果。

1.3 化学镀

化学镀作为一种新型的金属表面处理技术，在实际的工艺中，存在着技术简单、节能以及环境的特点。由于化学镀的使用工艺广泛，通过镀金层的管理，可以提高工艺项目的整体效果，增强材料的防护性能，同时也可以延长设备的使用寿命。将该种技术运用在航空航天以及机械化的产业中，可以增强设备的防护及装饰性能[1]。

2 硫脲使用中需要注意的问题

根据硫脲的运用特点，在硫脲使用的过程中需要注意以下问题：第一，结合硫脲的性质，在实际使用中，需要根据实验过程及工艺特点，在电镀前的处理中，需要根据抛光效应提高实验操作的整体效果。并按照电镀工艺的特点，利用络合效应，可以结合工业产业的运行特点，确定优化的硫脲使用方案，以提高工艺选择的整体质量，避免工艺隐患及不合理问题的出现。第二，在镀层性能分析以及材料配比中，为了增强实验操作的整体效果，需要严格确定镀层的工艺要求。通过抗腐蚀性、耐磨性以及延展性技术的分析，合理选择工艺技术。但应注意的是，如果在工业产业中，对镀层的耐磨性以延展性要求较高，不能使用硫脲，以保证实验操作的真题效果。第三，由于硫脲作为添加剂，应该与有机物以及无机物进行联合，提高实验操作的整体质量。第四，由于硫脲工艺的特殊性，实验的过程中，操作人员需要根据硫脲的性质，探究硫脲的新用途。通过技术使用以及科技的创新，提高硫脲镀层的整体质量，避免结晶不均匀以及镀层质量不高的问题，满足行业的可持续发展需求。因此，在工业产业发展中，将硫脲运用在工艺材料生产中，通过与电镀锌、铜以及多种锡合金的融合，可以增强镀液的稳定性，提高工业产业的运行效果，充分满足工业产业的可持续发展需求[2]。

3 硫脲在电镀和化学镀中的应用

3.1 配位剂

根据硫脲分子的组成，硫原子容易与Au、Ag以及Cu等金属离子形成稳定的配合物，如：将硫脲与Ag+融合时，配位离子是[Ag(H2NCSNH2)3]+，稳定常数相对较高。也就是说，在硫脲使用中，通过与贵金属配位化合，可以增强稳定性[3]。

通常情况下，硫脲在电镀和化学镀中的应用体现在以下方面：第一，硫脲在电镀中的应用。在电镀银中，银晶体在硫脲吸附层上呈现出逐渐增长的状态，也就是说，银晶体的大小、数量与硫脲的沉积层存在着紧密关联。第二，硫脲在化学镀中的运用。根据硫脲与化学镀的使用特点，在不同的化学镀中存在着差异性。如：在Cu与Cu合金表面化学镀融合中，将镀液中加入硫脲，会衍生出一定的生物，最终达到降解镀液的目的。整个过程中，硫脲的浓度一定要控制在0.3～2.0 mol/L的范围，以增强配位的有效性，避免技术运用不合理问题的出现；将硫脲运用在化学镀中，在Cu镀上镀Sn-Pb合金时，可以形成稳定性的配位化合物，有效改善Cu以及Sn的平衡点位，发挥硫脲与化学镀的优势，提高技术运用的整体效果[4]。

3.2 化学稳定剂

在硫脲使用的过程中，其存在着明显的稳定性特点。根据硫脲的性质，其作为化学镀中的稳定性，在与某些金属离子反应中，会发挥配合化合物的稳定性，及时改变硫脲的浓度，达到缓解电镀速率的目的。通常情况下，化学稳定剂的使用方法包括：第一，在化学镀中的运用。研究中发现，硫脲可以稳定化学镀铜融合，保证镀层的紧密性及耐腐蚀性。将硫脲运用在化学镀溶液中，其稳定性的使用效果较为明显，如在印制电路工艺中，通过两种无纸的融入，可以增强离子的联合能力，时刻保持离子电活性，从而达到稳定溶液的目的。实验操作的过程中，选择14 g/L的硫酸铜、40 g/L的酒石酸碱钠、20 g/L的氢氧化钠等作为实验配方。将操作条件控制在21～27 ℃，反应时间在15～25 min，整个过程的沉积速率可以达到0.5 μm。

需要注意的是，为了保证实验的稳定性，实验操作者要控制硫脲的加入量，从而达到实验操作的目的。因此，在工业产业运行的背景下，为了充分硫脲运用在化学镀中的使用效果：第一，应该将硫脲作为稳定剂，增强镀液配比的有效性[5]。第二，在电镀中的运用，将硫脲作为稳定剂，可以提高热稳定剂的效果，明确稳定剂的协同目标，以增强实验研究的稳定性，为工业产业的发展提供参考。如在硫脲使用的过程中，对镀层外观的影响是十分常见的。结合镀液的特点，在不稳定剂使用的过程中，将溶液中加入3 mg/L的硫脲，试验温度控制在85 ℃的转台，将施镀的时间保持在60 min，最终获得镀层的外观形态。实验中，镀液中的硫脲浓度在3 mg/L的状态下，镀层表面会呈现出细致、平滑的状态。同时，外观的质量良好，可以满足工艺产业的运行及持续发展需求[6]。

3.3 电镀添加剂

根据硫脲分子结构，其中的硫原子具有较为明显的配位作用，在实际的实验操作中，可以实现阻滞溶液金属离子放电的目的，并在被堵的表面上形成吸附层，增强实验反应效果，同时也可以提高阴极计划的作用，达到细化镀层的目的，实现工艺产品生产平整、光滑的调节目的。如在实验的过程中，硫脲中的镀液在发生水解的情况下，会生成溶胶MeS，通过选择性的吸附，可以发挥电极中的活性中心效果，提高镀层的平整度及光亮度。首先，将硫脲运用在电镀领域中，通过与电镀锌的使用，硫脲作为镀铜添加剂，可以提高镀层的吸附能力，满足工业产业的技术需求。在实验研究中，将镀铜液中加入少量的硫脲，可以增强镀锌层的平整度，而且也可以提高材料的耐腐蚀性，满足当前工业产业对材料的生产需求。该实验中，也可以改善铜镀层的外观特点，优化硫脲在电镀工艺中的使用效果。我国学者对电镀添加剂也进行了实验研究，镀Zn镀液中，加入硫脲可以避免金属杂质的出现，有效提高镀层的光亮度，达到工艺技术研究及改善的目的。但应注意的是，在整个实验中，需要将添加量控制在5.0 g/L的状态，提高硫脲的电流密度，实现电镀工艺使用的整体效果。

3.4 其他工艺运用

在工艺产业运行及持续发展的背景下，工业产业在提高产品质量同时，为了更好地改善工艺外观效果，需要结合硫脲的结构组成，将其运用在电镀以及化学镀领域中，以增强工艺生产的整体效果。在硫脲使用中，不仅可以将其作为电镀及化学镀中的晶粒细化剂，同时也具有加速剂的作用。因此，在工业产业的持续发展中，应该结合工艺产业的变化，构建完善性的生产工艺，以提高实验操作的整体效果，为产业的运行及技术推广提供参考[7]。

4 结语

总而言之，在工业产业发展中，将硫脲运用在工艺材料生产中，通过与电镀锌、铜以及多种锡合金的融合，可以增强镀液的稳定性，并在整个工艺过程中充当配位剂、稳定剂，提高工业产业的运行效果。但是，在整个实验研究及技术操作的过程中，一定要注意硫脲用量，通过适当计量材料的使用，进行试验试剂的科学配比，有效提高工艺实验效果，并降低对环境的污染，为行业的运行及高质量发展提供保障，充分满足行业的稳步运行及绿色化发展需求。