专利名称: 界面强化钼合金及其制备方法

专利申请号: CN201710121286

公开号: CN107099716B

申请日:2017.03.02

公开日:2019.01.08

申请人: 中广核研究院有限公司; 中国广核集团有限公司; 中国广核电力股份有限公司

本发明公开了一种界面强化钼合金及其制备方法，钼合金包括以下质量百分比的成分：85%-98%Mo、0.5%-15%活性金属元素、0.1%-5%碳化物以及0.1%-5%稀土金属氧化物；所述钼合金具有钼-活性金属相-钼的强化界面。本发明通过活性金属分离钼-钼弱结合界面，形成“钼-活性金属相-钼”的强化界面，同时利用超细/纳米碳化物与稀土氧化物的均匀复合弥散分布形成的大量微观界面吸收中子辐照产生的点缺陷，从而提高钼合金界面结合强度与韧性，并因此改善抗辐照脆化性能。