不同类型石墨框镀膜效果研究

（晶澳太阳能有限公司，河北邢台 055550）

0.引言

晶硅太阳能电池制作工艺中为了减少电池表面光反射，同时钝化硅表面悬挂键通常需要对硅片表面镀一层SiN减反射膜；近年来逐步产业化的钝化发射极和局部背接触（PERC，Passivated Emitter and Rear Local Contact）电池工艺对硅片的背表面钝化提出了更高要求；需要在硅片背表面镀Al2O3+SiN叠层膜来进行背表面钝化。目前市场上常用的镀Al2O3膜层的设备分为两大类，一类是采用原子层沉积（ALD，Atomic layer deposition）工艺，一类是采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD，Plasma enhanced chemical vapor deposition)工艺[1]；而采用PECVD工艺镀Al2O3膜层的设备中，以梅耶博格公司的MAIA设备应用最多。在采用MAIA设备制备Al2O3+SiN叠层膜的过程中，需要使用一种承载硅片的石墨框。目前厂家提供的均为4＊6（长边可放置6片硅片，短边可放置4片硅片，整框一次可承载24片硅片）规格石墨框；现场运行过程中为了在不增加设备及特气耗量前提下，提升产能，进而达到降本的作用，特将4＊6规格石墨框改进成5＊6规格；但同时又出现了绕镀等工艺异常，本文主要针对不同5＊6石墨框镀膜效果进行了研究，提出了不同类型石墨框所适用的工艺类型，对现场品质和降本的改造具有重大意义。

1.实验设计

1.1 实验仪器

本文采用梅耶博格公司的MAIA设备进行镀膜，用量拓EMPro-PV椭偏仪测试薄膜的膜厚数据，采用薄膜5点方差平均值表征镀膜均匀性:

方差越大均匀性越差，方差越小均匀性越好。

椭偏仪测试工作原理示意图如图1所示，由激光器发出一定波长(λ=632nm)的激光束，经过起偏器后变为线偏振光。……