粉末靶制备的AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的光电性能

刘思宁,周艳文,吴 川,吴法宇

(辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山 114051)

粉末靶制备的AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的光电性能

刘思宁,周艳文*,吴 川,吴法宇

(辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山 114051)

室温下,采用射频磁控溅射AZO粉末靶和Ag靶在玻璃基底上制备Ag层厚度分别为12 nm和15 nm两组对称结构掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(AZO/Ag/AZO)透明导电薄膜,研究了Ag层和AZO层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明:3层薄膜的可见光区平均透光率达到了80%,550 nm处的最高透过率达到了88%,方块电阻小于5Ω/阴。Ag层厚度是影响AZO/Ag/AZO薄膜光电性能的主要因素,AZO层的厚度对薄膜光学性能影响较大。

多层透明导电薄膜;金属基透明导电薄膜;粉末靶;射频磁控溅射

1 引 言

随着电子器件的飞速发展,其对透明导电薄膜电极的性能要求也越来越高。除了对更低电阻、更高透过率的要求外,还有红外反射性等其他方面的更高要求。金属基透明导电膜能够满足这些要求。金属基透明导电膜可利用其在可见光区高反射、低吸收、导电性好的金属层来保证其良好的导电性,用适当厚度的高折射率的电介质膜消减反射作用来获得在可见光区的高透过率[1-2]。金属基透明导电膜还表现出奇特的性能可调性,即通过改变膜层的厚度,可以对光、电性能进行调控[3],以适应器件在不同范围的应用要求。根据特征矩阵进行膜层的优化设计,能够实现各膜层的优化组合[4]。除了设计灵活性,此类薄膜还具有较低的成本和良好的机械加工性。……